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[发明专利]堆积装置和堆积方法-CN201210313844.2无效
发明人：安井宽治;西山洋;井上泰宣;三浦仁嗣 -专利权人：国立大学法人长冈技术科学大学;东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-11-21 - 公布日： 2013-02-06 - 主分类号： C23C16/452 文献下载
摘要：本发明公开的堆积装置具备：催化反应装置，含有：导入第1原料气体的导入部，和收容从所述导入部所导入的所述第1原料气体生成反应性气体的催化剂的、催化剂容器，和从所述催化剂容器喷出所述反应性气体的反应性气体喷出部；反应性气体分离器，容许从所述反应性气体喷出部喷出的所述反应性气体的流通；支持基板的基板支持部；和供给第2原料气体的供给部，所述第2原料气体与穿过所述反应性气体分离器的所述反应性气体反应，使膜堆积于所述基板
堆积装置方法

[发明专利]堆积装置和堆积方法-CN200880125817.4无效
发明人：安井宽治;西山洋;井上泰宣;三浦仁嗣 -专利权人：国立大学法人长冈技术科学大学;东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-11-21 - 公布日： 2010-12-29 - 主分类号： C23C16/452 文献下载
摘要：本发明公开的堆积装置具备：催化反应装置，含有：导入第1原料气体的导入部，和收容从所述导入部所导入的所述第1原料气体生成反应性气体的催化剂的、催化剂容器，和从所述催化剂容器喷出所述反应性气体的反应性气体喷出部；反应性气体分离器，容许从所述反应性气体喷出部喷出的所述反应性气体的流通；支持基板的基板支持部；和供给第2原料气体的供给部，所述第2原料气体与穿过所述反应性气体分离器的所述反应性气体反应，使膜堆积于所述基板
堆积装置方法

[发明专利]高反应性气体的吸附剂辅助稳定化-CN201880060852.6有效
发明人：格伦·M·汤姆;保罗·卫-曼·西乌;琼斯·阿诺;奥马尔·K·法尔哈;罗斯·韦尔普洛格 -专利权人：纽麦特科技公司
申请日： 2018-09-24 - 公布日： 2021-08-17 - 主分类号： B01D53/04 文献下载
摘要：将高反应性气体吸附到吸附剂材料上的方法包含将所述高反应性气体吸附到所述吸附剂材料。所述吸收性材料包含至少一个路易斯碱性官能团，或保持所述高反应性气体的单个分子的大小的孔，或惰性部分，所述惰性部分与所述高反应性气体同时，在吸附所述高反应性气体之前或在吸附所述高反应性气体之后提供到所述吸附剂材料，或所述高反应性气体与所述吸附剂材料的部分反应，导致所述吸附剂材料钝化。在对于吸附的高反应性气体和纯气体相等的体积负载和相等的温度下，所述吸附的高反应性气体的分解速率低于所述纯气体的分解速率。
反应性气吸附剂辅助稳定

[发明专利]等离子体处理系统中的混合模式脉冲蚀刻-CN201610451176.8有效
发明人：克伦·雅克布卡纳里克 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2012-12-17 - 公布日： 2018-10-02 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于处理在室中衬底的方法，该室具有至少一个等离子体发生源、用于提供反应性气体进入该室的内部区域的反应性气体源和用于提供非反应性气体进入所述内部区域的非反应性气体源。该方法包括执行混合模式脉冲(MMP)准备阶段，包括使反应性气体流入所述内部区域以及形成第一等离子体以处理被放置在工件夹具上的衬底。该方法还包括执行MMP反应阶段，包括使至少非反应性气体流入所述内部区域以及形成第二等离子体以处理所述衬底，第二等离子体是由在所述MMP反应阶段期间的反应性气体流形成，在所述MMP反应阶段期间的反应性气体流少于在所述MMP准备阶段期间的反应性气体流。
等离子体处理系统中的混合模式脉冲蚀刻

[发明专利]等离子体处理系统中的混合模式脉冲蚀刻-CN201280065464.X有效
发明人：克伦·雅克布卡纳里克 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2012-12-17 - 公布日： 2014-09-10 - 主分类号： C23C16/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于处理在室中衬底的方法，该室具有至少一个等离子体发生源、用于提供反应性气体进入该室的内部区域的反应性气体源和用于提供非反应性气体进入所述内部区域的非反应性气体源。该方法包括执行混合模式脉冲(MMP)准备阶段，包括使反应性气体流入所述内部区域以及形成第一等离子体以处理被放置在工件夹具上的衬底。该方法还包括执行MMP反应阶段，包括使至少非反应性气体流入所述内部区域以及形成第二等离子体以处理所述衬底，第二等离子体是由在所述MMP反应阶段期间的反应性气体流形成，在所述MMP反应阶段期间的反应性气体流少于在所述MMP准备阶段期间的反应性气体流。
等离子体处理系统中的混合模式脉冲蚀刻

[发明专利]一种克劳斯分流硫磺回收系统及工艺-CN201910733695.7有效
发明人：朱学军;张晓华;李健;彭亚锋;邱云霞 -专利权人：中国石化工程建设有限公司;中石化炼化工程（集团）股份有限公司
申请日： 2019-08-09 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： B01D53/75 文献下载
摘要：本发明涉及天然气净化及煤化工领域，公开一种克劳斯分流硫磺回收系统及工艺，该系统包括酸性气分液部分、酸性气分流部分、酸性气/过程气热反应混合部分、过程气冷凝/预热部分和催化反应部分；酸性气分液部分的酸性气出口与酸性气分流部分的酸性气入口连通，酸性气分流部分的酸性气出口与酸性气/过程气热反应混合部分的酸性气入口连通，酸性气/过程气热反应混合部分的热反应过程气出口与过程气冷凝/预热部分的热反应过程气入口连通，过程气冷凝/预热部分的催化前过程气出口与催化反应部分的催化前过程气入口连通，过程气冷凝/预热部分的催化后过程气入口与催化反应部分的催化后过程气出口连通。
一种克劳斯分流硫磺回收系统工艺

[发明专利]半色调相移光掩模坯、制造方法和半色调相移光掩模-CN201710898801.8有效
发明人：高坂卓郎;稻月判臣;金子英雄 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2017-09-28 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：在使用含硅靶、惰性气体和含氮反应性气体的反应性溅射期间，通过如下绘制迟滞曲线：扫描反应性气体的流量，并且将扫描期间的溅射电压或电流相对于反应性气体的流量作图。在对应于大于提供迟滞的反应性气体流量的下限～小于上限的范围的区域中溅射的步骤中，靶功率、惰性气体流量和/反应性气体流量连续或逐步地增加或降低。
色调相移光掩模坯制造方法光掩模

[发明专利]反应性气体、其产生系统和使用其的产品处理-CN202010264719.1在审
发明人： K.M.基纳;M.A.霍克沃尔特 -专利权人：纳诺嘉德技术有限责任公司
申请日： 2016-10-24 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： A23B7/152 文献下载
摘要：本发明涉及反应性气体、其产生系统和使用其的产品处理。一种用反应性气体处理产品或表面的方法，其包括：通过由工作气体形成高电压冷等离子体(HVCP)而产生反应性气体；输送所述反应性气体远离HVCP至少5cm；随后，使所述产品或表面与所述反应性气体接触。
反应性气产生系统使用产品处理

[发明专利]反应性气体、其产生系统和使用其的产品处理-CN201610939647.X有效
发明人： K.M.基纳;M.A.霍克沃尔特 -专利权人：纳诺嘉德技术有限责任公司
申请日： 2016-10-24 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： A23B9/06 文献下载
摘要：本发明涉及反应性气体、其产生系统和使用其的产品处理。一种用反应性气体处理产品或表面的方法，其包括：通过由工作气体形成高电压冷等离子体(HVCP)而产生反应性气体；输送所述反应性气体远离HVCP至少5cm；随后，使所述产品或表面与所述反应性气体接触。
反应性气产生系统使用产品处理

[发明专利]准分子UV光反应装置-CN01814678.3无效
发明人：大野田忠与;坂井郁夫 -专利权人：信越工程株式会社
申请日： 2001-10-24 - 公布日： 2003-10-15 - 主分类号： B01J19/12 文献下载
摘要：一种准分子UV光反应装置，自反应性气体供应机构(1)将反应性气体(C)仅集中供应至被照射体(A)上的活性区域(A1)，从而在低温环境气氛下促进准分子UV与反应性气体(C)的光化学反应，由于对该化学反应不活泼的区域(A2)不供应反应性气体(C)，不致造成浪费，故即使不使用气体供应能力大的反应性气体供应源已足够。因此，能以简单构成且在低温环境气氛下稳定地进行光化学反应。
分子 uv 光反应装置

[发明专利]半色调相移光掩模坯和制造方法-CN201710052066.9有效
发明人：高坂卓郎;稻月判臣;金子英雄 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2017-01-20 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：使用硅靶、惰性气体和含氮反应性气体通过反应性溅射在透明基板上形成半色调相移膜。通过扫描该反应性气体的流量并且相对于该反应性气体的流量绘制该扫描过程中的溅射电压或电流，从而绘出滞后曲线。在与大于显示该滞后的反应性气体流量的下限到小于上限的范围对应的区域中溅射的过渡模式溅射步骤中，使施加于靶的电力、惰性气体流量和/或反应性气体流量连续地或阶段地增大或减小。
色调相移光掩模坯制造方法

[发明专利]一种酸性气逆流吸收方法和系统-CN201410046402.5有效
发明人：齐慧敏;李克见;彭德强;王璐瑶;陈建兵;孟凡飞;陈新;王岩 -专利权人：中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司抚顺石油化工研究院
申请日： 2014-02-10 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： B01D53/78 文献下载
摘要：本发明提供一种酸性气逆流吸收方法和系统，所述酸性气吸收方法采用气液两相逆流吸收反应，以NaOH溶液处理酸性气生产NaHS，所述工艺中一级反应和二级反应设置结晶器和分离器，实现反应器外取热，通过分级加注NaOH溶液，对反应热进行削峰处理，防止产生过热点导致局部结晶。采用文丘里反应器和旋转床反应器组合作为反应装置，操作灵活，传质效率高。本发明的酸性气处理工艺简单，可实现酸性气净化和污染物资源化的双重目标。本发明的酸性气处理工艺简单，可实现酸性气净化和污染物资源化的双重目标，所述酸性气处理系统规模小、能耗低和不易堵塞。
一种酸性逆流吸收方法系统

[发明专利]用于原子层沉积的系统和方法-CN201811181548.5有效
发明人： E·J·C·刘 -专利权人： ASM IP 控股有限公司
申请日： 2018-10-11 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：原子层沉积(ALD)方法可以包含将第一反应物蒸气脉冲输送到反应器组件中。向第一反应物气体管线供应所述第一反应物蒸气。以第一流动速率向第一非活性气体管线供应非活性气体。借助于第一进料管线将所述第一反应物蒸气和所述非活性气体馈送到所述反应器组件。通过以高于所述第一流动速率的第二流动速率向所述第一非活性气体管线供应所述非活性气体来吹扫所述反应器组件。可以将所述非活性气体的第一部分沿着所述第一反应物气体管线的扩散屏障部分反向馈送以提供在所述第一非活性气体管线上游的惰性气体阀(IGV)。可以借助于所述第一进料管线将所述非活性气体的第二部分馈送到所述反应器组件。
用于原子沉积系统方法

[发明专利]借助于分压摆动循环化学反应分离二氧化碳-CN200810184419.1无效
发明人： J·R·赫夫顿;R·奎因;V·怀特;R·J·阿拉姆 -专利权人：气体产品与化学公司
申请日： 2008-12-19 - 公布日： 2009-07-01 - 主分类号： C01B3/56 文献下载
摘要：本发明为借助于分压摆动循环化学反应分离二氧化碳的方法。公开了一种从进气混合物中分离反应性气体的方法。该方法包括，使反应性气体与反应性固体床在放热反应中反应以形成第二固体和从中除去该反应性气体的产物气体。除去该产物气体并使用该反应中热量在吸热反应中使反应性气体从第二固体中释放，产生反应性固体。除去反应性气体并分离。床中包含储热材料以保留热量来支持该吸热反应。也公开了实施该方法的设备，其具有容纳该床的绝热室，以及多个床形成的工艺单元。该工艺单元能使得循环地操作该方法，提供进气、反应性气体和产物气体的连续流。
借助于摆动循环化学反应分离二氧化碳

[发明专利]一种酸性气处理工艺及系统-CN201410046339.5有效
发明人：李鹏;齐慧敏;彭德强;王璐瑶;孟凡飞;陈建兵;陈新 -专利权人：中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司抚顺石油化工研究院
申请日： 2014-02-10 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： B01D53/78 文献下载
摘要：本发明公开了一种酸性气处理工艺及系统，所述酸性气处理工艺采用两级气液两相逆流吸收反应，以NaOH溶液为吸收液，处理酸性气生产NaHS，所述工艺中一级反应生成液和二级反应生成液循环使用，一级反应生成液循环回二级中间罐作为稀释液使用酸性气处理系统采用旋转床反应器作为气液反应器，酸性气中CO2与NaOH反应时，生成纳米级的Na2CO3结晶体，从而防止流体输送时Na2CO3结晶体堵塞管道。本发明的酸性气处理工艺简单，可实现酸性气净化和污染物资源化的双重目标，所述酸性气处理系统规模小、能耗低和不易堵塞。
一种酸性处理工艺系统

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