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[发明专利]有机电致发光元件-CN200710140849.9无效
发明人：赤井智纪 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2007-08-10 - 公布日： 2008-02-13 - 主分类号： H05B33/28 文献下载
摘要：其特征在于具有：透明基材、形成于上述透明基材上的透过性或半透过性的第一电极层、形成于上述透过性或半透过性的第一电极层上、且至少含有发光层的有机EL层、形成于上述有机EL层上的半透过性的第二电极层、形成于上述半透过性的第二电极层上、且由无机物组成的透过性或半透过性的膜厚调整层、和形成于上述透过性或半透过性的膜厚调整层上的反射层，由此实现上述目的。
有机电致发光元件

[发明专利]建筑材料用半透过性涂料-CN01804551.0无效
发明人：韦恩·E·肖;默里·S·托斯;约翰·O·瑞德 -专利权人：瑟登蒂德公司
申请日： 2001-02-01 - 公布日： 2003-02-19 - 主分类号： B32B3/26 文献下载
摘要：该涂料对水和水溶液而言具有单向的“透过性”特征。即，该涂层基本上不透过液态水，而可透过水蒸汽。由涂料涂布的隔绝体中的水的蒸汽由此可通过涂层，而有效地防止了液态水通过涂层和进入至隔绝体中。
建筑材料透过涂料

[发明专利]建筑材料用半透过性涂料-CN01804552.9无效
发明人：韦恩·E·肖;默里·S·托斯;约翰·O·瑞德 -专利权人：瑟登蒂德公司
申请日： 2001-02-01 - 公布日： 2003-02-19 - 主分类号： B32B3/26 文献下载
摘要：该涂料对水和水溶液而言具有单向的“透过性”特征。即，该涂层基本上不透过液态水，而可透过水蒸汽。由涂料涂布的隔绝体中的水的蒸汽由此可通过涂层，而有效地防止了液态水通过涂层和进入至隔绝体中。
建筑材料透过涂料

[发明专利]掩模坯料及光掩模-CN200680049390.5有效
发明人：三井胜;佐野道明 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2006-12-26 - 公布日： 2009-01-14 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：该掩模坯料用于制造在透光性基板上至少具有灰色调掩模用半透光性膜的FPD设备，该灰色调掩模用半透光性膜具有调节透过量的功能，其特征在于，所述灰色调掩模用半透光性膜是在由超高压汞灯放射的至少从i线到g线的波长带区域中，半透光性膜的透过率(即半透过率)的变动幅度被控制在不足5％的范围内的膜。
坯料光掩模

[发明专利]半色调掩膜的制造方法-CN201080037805.3无效
发明人：金武成 -专利权人： LG伊诺特有限公司
申请日： 2010-06-25 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种半色调掩膜的制造方法，所述半色调掩膜被配置为利用单一半透过材料而具有多个半透过单元，其中半色调掩膜的制造方法包括：在衬底上形成半透过材料；以及形成半透过区，所述半透过区用通过等离子体表面处理所述半透过材料和调节所述半透过材料的透射率而形成的具有与所述半透过材料的光透射率不同的透射率的至少一种半透过材料形成
色调制造方法

[发明专利]包含倍半硅氧烷复合高分子的热塑性树脂组合物-CN201580012246.3有效
发明人：崔胜皙;俞载元;南东镇;金斗植;黄钟源 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2015-03-06 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： C08L83/04 文献下载
摘要：本发明涉及包含倍半硅氧烷复合高分子的热塑性树脂组合物，更详细而言，涉及通过包含一个高分子内含有特定结构的线型倍半硅氧烷链和笼型倍半硅氧烷的倍半硅氧烷复合高分子，从而耐热性、耐化学性、防污性、气体透过防止特性、透过性、着色性、耐磨性和表面硬度等优异的热塑性树脂组合物。
包含倍半硅氧烷复合高分子塑性树脂组合

[发明专利]图案形成方法-CN200710087851.4无效
发明人：三坂章夫 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2004-06-24 - 公布日： 2007-08-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：光掩模，在透过性基板上具有：对曝光光有遮光性的半遮光部；被半遮光部包围、而且对曝光光有透光性的透光部；以及被半遮光部包围、且位于透光部周边的辅助图案。辅助图案，配置在与透过透光部的光能形成干涉的距离，半遮光部及透光部以彼此相同的相位使曝光光透过，辅助图案，以半遮光部及透光部为基准，用相反的相位使曝光光透过，且不被曝光光复制。
图案形成方法

[发明专利]灰阶掩模的缺陷检查方法及装置及其制造方法、光掩模的缺陷检查方法、图案转印方法-CN200810081531.2无效
发明人：中西胜彦 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2008-02-28 - 公布日： 2008-09-03 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：提供一种灰阶掩模的缺陷检查方法，能够正确判定具有形成了在掩模使用时的曝光条件下的析像限度以下的细微图案的区域的灰阶掩模的半透光部有无缺陷，能够提高缺陷检查的可靠性。灰阶掩模具有遮光部、透光部和半透光部，灰阶掩模的半透光部具有形成了在灰阶掩模使用时曝光的曝光条件下的析像限度以下的细微遮光图案的区域，其中具有：扫描半透光部得到透过率信号的工序；及将透过率信号与预先设定的半透光部的透过率许可值进行比较，判定半透光部有无缺陷的判定工序。在得到透过率信号的工序中，利用规定的光源照射半透光部，利用拍摄装置拍摄在透过半透光部的透过光束的作用下从正聚焦位置以规定量散焦后的图像，从该拍摄图像得到透过率信号。
灰阶掩模缺陷检查方法装置及其制造光掩模图案

[发明专利]使用光罩的图案形成方法-CN200610148583.8无效
发明人：三坂章夫 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2003-04-30 - 公布日： 2007-06-06 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种使用光罩的图案形成方法，其包括：在基板上形成光阻膜的工序；通过光罩向光阻膜照射曝光光的工序；使照射了曝光光的光阻膜显像，使光阻膜图案化的工序，光罩在它的透光性基板上形成有：对曝光光具有遮光性的半遮光部、由半遮光部包围且对曝光光具有透光性的透光部、及由半遮光部包围且位于透光部周边的周边部；半遮光部及透光部让曝光光在同相位下透过；周边部让曝光光在以半遮光部及透光部为基准的，反相位下透过；在半遮光部形成区域的透光性基板上，形成具有让曝光光部分地透过的透光率且让曝光光在以周边部为基准的反相位下透过的移相膜；周边部形成区域的透光性基板的表面露出来。
使用图案形成方法

[发明专利]半透过反射膜-CN02811180.X无效
发明人：武久庆太 -专利权人：帝人杜邦菲林日本株式会社
申请日： 2002-06-04 - 公布日： 2004-09-15 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：使用半透过反射膜制备在用透射光和反射光时均具有优良清晰度的半透过反射膜，所述半透过反射膜具有包含珠光颜料并且在塑料膜的至少一个表面上形成的半透过反射层，条件是半透过反射层中的珠光颜料以相对于塑料膜平面为15度或更小的定向角定向，半透过反射层中的珠光颜料的平均粒径为3－60μm，并且半透过反射层中的珠光颜料的平均粒径(D)与半透过反射层的厚度(T)的比值(D/T)为1.3－30。
透过反射

[发明专利]半色调掩模及其制造方法-CN201080023385.3有效
发明人：金武成 -专利权人： LG伊诺特有限公司
申请日： 2010-05-26 - 公布日： 2012-05-09 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明涉及一种半色调掩模及其制造方法，用来减少形成多个半透过部的半透过材料的数目以及过程的数目，从而减少制造成本，其中，所述半色调掩模包括：基底；透射区，形成在所述基底上以透射预定波长的辐射光；以及半透过区，形成在所述基底上，具有由两种或多种半透过材料交替层叠的多个层，并且半透过区形成有根据层叠的半透过材料的数目具有不同透射率的多个半透过部；以及具有阻挡层的阻挡区，该阻挡层形成在具有交替层叠的多种半透过材料上
色调及其制造方法

[发明专利]半透过型防伪膜-CN201910248648.3有效
发明人：崔眞荣;李容准;朴范圭 -专利权人：纳米麦加株式会社
申请日： 2019-03-29 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： B42D25/351 文献下载
摘要：半透过型防伪膜包括：基底、位于所述基底上且具有用于形成真伪判定用图像的衍射图案的衍射性光学元件层及沿着所述衍射图案的轮廓形成于所述衍射性光学元件层且能够使入射的入射光部分反射及部分透过的透光度调节薄膜。因此，半透过型防伪膜可通过使入射光反射及透过以在膜两侧形成衍射图像。本发明的半透过型防伪膜能够轻易地呈现复杂的图像，能够不规则地呈现具有随机形状或大小的衍射图案。
透过防伪

[发明专利]半色调掩模及其制造方法-CN201080023383.4有效
发明人：金武成 -专利权人： LG伊诺特有限公司
申请日： 2010-05-26 - 公布日： 2012-05-09 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明涉及一种半色调掩模及其制造方法，用来使用单一半透过材料形成多个半透过单元，其中，所述半色调掩模包括：基底；透射区，形成在所述基底上以透射预定波长范围内的辐射光；以及半透过区，形成在所述基底上，具有多个半透过单元，这些半透过单元使用所述预定波长范围根据半透过材料的厚度或层叠层的数目具有多个互不相同的透射率。
色调及其制造方法

[发明专利]半色调掩模、光掩模坯和半色调掩模的制造方法-CN201780070662.8有效
发明人：美作昌宏 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2017-12-25 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种能够兼顾图案细微化和多灰阶的半色调掩模。其解决手段在于在透明基板上具有：包括第一半透膜的第一半透过区域；包括上述第一半透膜与第二半透膜的叠层的第二半透过区域；透明区域；以及第一半透过区域与第二半透过区域邻接的区域，上述第一和第二半透过区域对曝光光的透过率分别为10～70[％]和1～8[％]，第二半透过区域使曝光光的相位反转。其结果，在邻接的第一半透过区域与第二半透过区域的边界部分，曝光光的强度分布陡峭地变化，能够改善经曝光后的光致抗蚀剂图案的剖面形状。
色调光掩模坯制造方法

[实用新型]半透过型防伪膜-CN201920416393.2有效
发明人：崔眞荣;李容准;朴范圭 -专利权人：纳米麦加株式会社
申请日： 2019-03-29 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： B42D25/351 文献下载
摘要：半透过型防伪膜包括：基底、位于所述基底上且具有用于形成真伪判定用图像的衍射图案的衍射性光学元件层及沿着所述衍射图案的轮廓形成于所述衍射性光学元件层且能够使入射的入射光部分反射及部分透过的透光度调节薄膜。因此，半透过型防伪膜可通过使入射光反射及透过以在膜两侧形成衍射图像。本实用新型的半透过型防伪膜能够轻易地呈现复杂的图像，能够不规则地呈现具有随机形状或大小的衍射图案。
半透过型衍射图案防伪膜衍射性光学元件入射光图像基底反射本实用新型透光度调节轮廓形成随机形状衍射图像真伪判定不规则波长入射薄膜

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