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[发明专利]一种用于芯片的光刻胶剥离液、制备方法及去胶工艺-CN201310719197.X有效
发明人：侯军;李波 -专利权人：大连奥首科技有限公司
申请日： 2013-12-23 - 公布日： 2014-03-26 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于芯片的光刻胶剥离液、制备方法及去胶工艺，所述剥离液包括剥离剂、润湿剂、有机胺或有机铵盐、缓蚀剂、助剂和有机溶剂。所述剥离液对各种芯片具有良好的光刻胶剥离和溶解能力，能够完全去除光刻胶，无残留，此外还能保证无腐蚀，具有广泛的工业应用潜力和价值。
一种用于芯片光刻剥离制备方法工艺

[发明专利]改善了在碱性水溶液中剥离性能的可光成象组合物-CN99104155.0有效
发明人： R·W·考茨;R·B·巴雷 -专利权人：莫顿国际股份有限公司
申请日： 1999-03-18 - 公布日： 1999-11-17 - 主分类号： G03F7/033 文献下载
摘要：一种可用作光致抗蚀剂的负片型可光成象组合物,该组合物包括酸官能粘合剂聚合物、可光成象组分和光引发剂化学体系,其中粘合剂聚合物具有多峰分子量分布,以促进光致抗蚀剂以较小的颗粒快速剥离。快的剥离时间和小的剥离颗粒的结合可使光致抗蚀剂以有利于环境的只含水的方法从电镀的电路板上剥离。
改善碱性水溶液剥离性能成象组合

[发明专利]一种大规模制备高质量石墨烯的方法-CN201210341989.3无效
发明人：郭向云;王云伟;童希立;靳国强;郭晓宁 -专利权人：中国科学院山西煤炭化学研究所
申请日： 2012-09-17 - 公布日： 2013-01-16 - 主分类号： C01B31/04 文献下载
摘要：一种大规模制备高质量石墨烯的方法是将剥离剂与水混合，制备浓度为0.2%-50wt%的剥离剂溶液；按膨胀石墨与剥离剂溶液质量比为0.1-10：100，将膨胀石墨分散于剥离剂溶液中搅拌浸渍，搅拌并浸渍时间是
一种大规模制备质量石墨方法

[实用新型]一种有机硅乳液烘缸剥离剂制备混合装置-CN202120264011.6有效
发明人：王富木 -专利权人：迈科（浙江）新材料有限公司
申请日： 2021-01-30 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： B01F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种有机硅乳液烘缸剥离剂制备混合装置，属于剥离剂制造领域，解决现有剥离剂制备装置中存在搅拌死角的问题，解决该问题的方案主要包括，筒体、上料组件、搅拌组件、所述搅拌组件包括驱动部和搅拌部，所述驱动部驱动搅拌部工作，搅拌部设有多根搅动棒，搅动棒上还设有搅拌叶，搅拌面积大幅提升，避免了因为搅拌死角的存在影响剥离剂的品质。
一种有机硅乳液剥离制备混合装置

[发明专利]光致抗蚀剂剥离剂组合物-CN201610685935.7在审
发明人：金俸均;朴弘植;郑在祐;金炳郁;赵泰杓;许舜范;张斗瑛;金东宽 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2016-08-18 - 公布日： 2017-06-20 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明公开一种光致抗蚀剂剥离剂组合物。所述光致抗蚀剂去除用剥离剂组合物可在避免对金属图案的腐蚀和/或对有机/无机膜的损伤的前提下除去光致抗蚀剂。所述光致抗蚀剂去除用剥离剂组合物组成为相对于所述剥离剂组合物的总重量而包含15重量％至80重量％的非质子性极性溶剂，包含有N,N‑二甲基丙酰胺；25重量％至80重量％的质子性极性溶剂；1重量％至15重量
光致抗蚀剂剥离组合

[发明专利]干膜抗蚀剂剥离剂组合物以及使用该组合物的干膜抗蚀剂的除去方法-CN201410259171.6在审
发明人：曹恩仁;吴龙洙;李秀兴;孙命赞;池营植;李胎坤;李庚相;郑世桓;金柄郁;尹锡壹;郑宗铉;许舜范;黄钟源 -专利权人：三星电机株式会社;株式会社东进世美肯
申请日： 2014-06-11 - 公布日： 2015-01-14 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种干膜抗蚀剂剥离剂组合物以及使用该组合物的干膜抗蚀剂的除去方法。本发明的干膜抗蚀剂剥离剂组合物以规定的混合比含有氢氧系化合物、链胺化合物、三唑化合物以及纯水(H₂O)，能够完全除去干膜抗蚀剂，同时能够防止金属层的腐蚀，且具有剥离剂可再使用的优点
干膜抗蚀剂剥离组合以及使用除去方法

[发明专利]用于光致抗蚀剂的剥离剂组合物及剥离光致抗蚀剂的方法-CN201010000570.2无效
发明人：朴珉春;闵盛晙;金璟晙;韩熙;高完熙 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2010-01-12 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种光致抗蚀剂剥离剂组合物。更具体而言，通过包含一种基于苯并咪唑的化合物和一种基于三唑的化合物，本发明的光致抗蚀剂剥离剂组合物具有极好的光致抗蚀剂剥离能力，以及当光致抗蚀剂的下层膜含有钼(Mo)时对光致抗蚀剂的下层膜的极好的防腐蚀效果
用于光致抗蚀剂剥离组合方法

[发明专利]光致抗蚀剂膜的剥离液组合物-CN201110367662.9无效
发明人：张军;常积东;李承孝 -专利权人：西安东旺精细化学有限公司
申请日： 2011-11-18 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供一种光致抗蚀剂膜的剥离液组合物，包括有机碱、有机溶剂、防腐蚀剂和水。光致抗蚀膜剂的剥离液组合物，该组合物按质量百分比计包括：5-50wt％的有机碱，1-60wt％的有机溶剂，0.5-15wt％的防腐蚀剂，其余为水。本发明的剥离液尤其适用于厚度为100μm以上的厚干膜的剥离，可以在较低温度(55-75℃)、较短时间(＜30min)条件下，完全剥离厚干膜。
光致抗蚀剂膜剥离组合

[发明专利]一种热转印离型剂-CN201610841412.7有效
发明人：叶青 -专利权人：陈龙
申请日： 2016-09-22 - 公布日： 2019-04-05 - 主分类号： C09D135/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种热转印离型剂，以重量份计，包括以下组分：水性苯乙烯马来酸酐树脂，氟碳表面活性剂，醇化纳米蒙脱土颗粒，增韧剂，甲醇，去离子水。该离型剂为冷热撕型离型剂，既可以在高温下剥离也可以在常温下进行剥离，而且该离型剂剥离完全，稳定性好，制备方法简单。
离型剂剥离热转印水性苯乙烯马来酸酐树脂氟碳表面活性剂纳米蒙脱土去离子水常温下增韧剂重量份冷热醇化甲醇制备

[发明专利]光刻胶剥离剂-CN201410239625.3有效
发明人：不公告发明人 -专利权人：青岛华仁技术孵化器有限公司
申请日： 2014-05-30 - 公布日： 2017-11-14 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻胶剥离剂，其原料包括防腐剂、有机胺化合物、有机溶剂、去离子水和C2～C15一元醇。该剥离剂能够提供剥离性优异、安全，且不会腐蚀导电体的防腐蚀性优异。
光刻剥离

[发明专利]一种用于去除造口袋黏胶的剥离剂及其制备方法和应用-CN201810008709.4有效
发明人：李忠梅;聂正稳 -专利权人：武汉市思泰利医疗器械发展有限公司
申请日： 2018-01-04 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： A61K8/34 文献下载
摘要：本发明公开一种用于去除造口袋黏胶的剥离剂及其制备和应用，该剥离剂的组分由异丙醇、表面活性剂、医用甘油、柠檬酸、抗菌剂、水为余量组成；该用于去除造口袋黏胶的剥离剂的制备方法按比例称量好各种原料；将表面活性剂溶解在水中，搅拌均匀溶解后再将异丙醇、医用甘油、柠檬酸、抗菌剂加入到其中，快速搅拌均匀后，即得到均匀稳定的用于去除造口袋黏胶的剥离剂。本发明提供的用于去除造口袋黏胶的剥离剂剂型多样(喷剂、片剂独立包装、湿巾类)；国内生产；价格优惠；选用的椰油酰两性醋酸二钠是一种极温和的两性表面活性剂，具有良好的清洗、起泡、调理作用，与阴离子、阳离子和非离子表面活性剂相容性好
一种用于去除口袋黏胶剥离及其制备方法应用

[发明专利]压敏粘合剂制品-CN03127279.7无效
发明人：樱井功;柴野富四 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2003-08-29 - 公布日： 2004-05-12 - 主分类号： C09J7/02 文献下载
摘要：本发明提供一种几乎不产生由硅氧烷化合物所导致的不利影响、且具有改善的可剥离性的压敏粘合剂制品，上述改善的可剥离性使得可以用较小的剥离力将剥离片从压敏粘合剂层上剥离。这样的一种压敏粘合剂制品1A由压敏粘合剂片2A和剥离片3A构成。压敏粘合剂片2A包括压敏粘合剂片2A的基体材料21以及一个压敏粘合剂层22。剥离片3A包括一个剥离片基体材料31和一个剥离剂层32。剥离剂层32由密度为0.94g/cm³或更小的聚烯烃树脂构成。在面向压敏粘合剂层22的剥离剂层32的表面处，按照JIS K 6768所定义的湿张力测试法所测定的湿张力为33mN/m或更小。
粘合剂制品

[发明专利]一种水性可剥离涂料及其制备方法-CN201711112660.9有效
发明人：管新兵 -专利权人：上海韦奇化工有限公司
申请日： 2017-11-13 - 公布日： 2020-06-12 - 主分类号： C09D175/04 文献下载
摘要：本发明提供一种水性可剥离涂料，所述水性可剥离涂料的制备原料包含：成膜材料30‑60、颜料0‑6、填料0‑6、增稠剂0.2‑2、剥离剂1‑10、润湿剂0.5‑5、分散剂0.2‑2、流平剂0.2‑2、消泡剂0.2‑2、水10‑20；本发明提供的所述水性可剥离涂料，不仅具备水性涂料的优势，环保、无毒、无害，可剥离性更高，内聚力更强，具备优异的防腐蚀性和防污性，同时能够有效的解决水性涂料固化速度慢的缺点，同时本发明提供的所述水性可剥离涂料易回收重复使用
一种水性剥离涂料及其制备方法

[发明专利]一种自乳化粘泥剥离杀菌剂及其制备方法和应用-CN201811484640.9在审
发明人：缪飞;栾安博;麦裕良;邱美坚;汤小燕;吴海福 -专利权人：广东省石油与精细化工研究院
申请日： 2018-12-06 - 公布日： 2019-04-09 - 主分类号： A01N47/48 文献下载
摘要：本发明公开了一种自乳化粘泥剥离杀菌剂及其制备方法和应用。一种自乳化粘泥剥离杀菌剂是由以下质量百分比的原料组成：1～6％2‑硫氰基甲基硫代苯并噻唑，0.5～5％二硫氰基甲烷，0～5％海因类化合物，8～22％季铵盐阳离子表面活性剂，1～5％非离子表面活性剂，8～同时也公开了这种自乳化粘泥剥离杀菌剂的制备方法。还公开了这种自乳化粘泥剥离杀菌剂在工业循环冷却水系统中的应用。采用本发明的自乳化粘泥剥离杀菌剂的优点在于物化性能稳定，投入水体后发生乳化，易于快速均匀分散于水体，剥离和分散生物粘泥效果优异、杀菌广谱持久、适应pH值范围宽、作用后对人畜无害。
杀菌剂自乳化粘泥剥离制备方法和应用水体季铵盐阳离子表面活性剂工业循环冷却水系统非离子表面活性剂甲基硫代苯并噻唑二硫氰基甲烷海因类化合物质量百分比人畜无害生物粘泥物化性能有机溶剂原料组成硫氰基广谱乳化杀菌制备应用

[发明专利]一种轻剥离力的无溶剂型有机硅离型剂及制备方法和应用-CN201711382950.5有效
发明人：胡继文;李广森;魏彦龙;涂园园;黄振祝;林树东;欧明;吕满庚 -专利权人：中科院广州化学有限公司;中科院广州化学有限公司南雄材料生产基地;中科院广州化学所韶关技术创新与育成中心;南雄中科院孵化器运营有限公司;中国科学院大学
申请日： 2017-12-20 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： C09D183/07 文献下载
摘要：本发明属于离型材料领域，公开了一种轻剥离力的无溶剂型有机硅离型剂及其制备方法和应用。本发明的轻剥离力的无溶剂型有机硅离型剂包含以下质量份组分：乙烯基聚硅氧烷100份；含氢聚硅氧烷2～20份；锚固剂2～10份；含氟离型力调节剂2～10份；铂类催化剂2～10份；其中，乙烯基聚硅氧烷和含氢聚硅氧烷的官能团比本发明离型剂可应用于离型纸中。由本发明离型剂制备得到的离型纸具有超轻剥离力，常温剥离力可低至1.3g/25mm，老化剥离力可低至1.7g/25mm，离型性能稳定，可用于实际生产加工方面，解决某些电子加工行业某些应用场景中对超轻剥离力的要求
一种剥离溶剂有机硅离型剂制备方法应用