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- [发明专利]掩膜版制作方法以及掩膜版-CN201810777200.6有效
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朱小研;朱海彬;黄华;肖维康
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京东方科技集团股份有限公司
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2018-07-16
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2023-07-21
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C23C14/04
- 本发明涉及掩膜版技术领域,提出一种掩膜版的制作方法,该掩膜版的制作方法包括:在承载基板上形成高分子材料层;在高分子材料层上形成压印胶;利用与掩膜板图案对应的模具在对压印胶进行压印;对压印后的压印胶以及高分子材料层进行刻蚀,从而在高分子材料层上形成掩膜版图案;将承载基板从高分子材料层剥离,从而形成掩膜版。本公开通过上述工艺可以形成较薄的高分子材料层作为掩膜版。一方面,较薄的高分子材料层上可以形成密度较高的开孔作为掩膜版图案;另一方面,高分子材料的密度较小,在对高分子材料层进行张网时,高分子材料层各个位置的屈服力更加均匀,从而使得掩膜版上的图案更均匀。
- 掩膜版制作方法以及
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