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- [实用新型]一种全方位高压清洗喷头装置-CN201720789230.X有效
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孟景贤;施伟
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张家港市佑达建设工程有限公司
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2017-07-03
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2018-03-27
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B05B3/10
- 本实用新型公开了一种全方位高压清洗喷头装置,包括全方位旋转喷头、底座和高压泵，所述高压泵设在底座的内部，所述底座呈空心圆柱状结构，底座内的高压泵上方连通喷射管底端，所述底座上表面中间位置固定设有固定座，所述固定座横截面呈上大下小的梯形结构，此装置通过全方位旋转喷头的旋转喷射达到全方位喷射的效果，清洗范围较广，清洗时不用变换物件的放置角度，省时省力，效率较高，高压泵喷射出的水经全方位旋转喷头内部挡板和揽板的作用，可带动全方位旋转喷头进行旋转喷射，利用高压喷射水带动全方位旋转喷头进行旋转喷射，较为节约能源，制作成本低，且不需人工调节，效率较高，适合推广。
- 一种全方位高压清洗喷头装置
- [实用新型]全方位旋转LED射灯-CN201120028321.4无效
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庞希善
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庞希善
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2011-01-28
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2011-09-14
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F21S2/00
- 本实用新型公开了一种全方位旋转LED射灯，包括：射灯内固定安装LED光源和反光杯；所述射灯内的各个聚光镜安装在由电机带动旋转的旋转盘上；所述旋转盘上的各个聚光镜与所述LED光源间隔一定距离。在筒形射灯的侧壁和筒口处分别安装旋转部件，带动射灯全方位旋转。各个聚光镜被带动围绕LED光源旋转，由于每个聚光镜的焦距不同，在全方位旋转的同时，实现了不同多种层次的投光和光斑效果。在若干个聚光镜经多次折射产生若干个不同角度，不同方位的光照效果较好。另外，采用导电轴承，在旋转过程中，不会出现导线缠绕现象，射灯在两个互为垂直方向的电机带动旋转，形成360度全方位转动。
- 全方位旋转led射灯
- [实用新型]全方位旋转摆动装置-CN200820117698.5无效
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王敏南;华亮;三炜宁
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华亮;王敏南
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2008-06-16
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2009-04-29
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F16H37/12
- 一种全方位旋转摆动装置，包括有基架及一台步进电机，其特征是基架上装有旋转主轴及与步进电机连接的传动轴，传动轴上设上、下主动齿轮及上、下电磁离合器，旋转主轴顶端设有定位支架及上位转轴，定位支架设有竖向滑槽，定位支架上端设上位转轴并连接有旋转摆动头，旋转主轴下部装有与上主动齿轮啮合的被动齿轮套及与下主动齿轮啮合的被动齿轮，被动齿轮套的上端设有曲线槽，曲线槽内设滚子与上下滑杆连接，上下滑杆上端以固定销轴连接一曲柄，固定销轴装有滚子位于定位支架的竖向滑槽内，曲柄外端头连接一连杆，连杆连接上位转轴；该装置以一台步进电机实现旋转摆动头的左右摆动、旋转运动或进行左右摆动及旋转运动，操作简便，具实用性。
- 全方位旋转摆动装置
- [实用新型]全方位旋转台结构-CN200520018012.3无效
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钟金米
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长安微电有限公司
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2005-04-29
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2006-08-02
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G12B9/08
- 本实用新型是一种全方位旋转台结构，其中，俯仰座可装有监视摄影；上盖上端与俯仰座连结，下端与本体固定；本体于底部设非接触式磁感应器；支承片是承座；齿盘上形成复数柱状齿纹，在柱状齿纹之间形成间隔凹槽，供插梢镶嵌；插梢具备磁铁，该插梢可移位镶嵌于齿盘上；底座具备大小透孔供锁固定位；控制平台具备电路板及功能操作盘；将监视器与控制平台接连，将插梢镶嵌于齿盘上，当非接触式感应器第一次与磁铁感应时，本体呈一方向旋转，当该本体旋转至另一磁铁时，由非接触式感应器与磁铁作第二次感应，本体呈反向旋转，当第三次感应时又回到第一次相同的动作，如此连续的动作以使全方位巡转台呈360度全方位的监控。
- 全方位旋转结构
- [发明专利]一种用于雕刻的全方位铣刻机-CN202210165424.8在审
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韩滕超
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韩滕超
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2022-02-23
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2022-05-10
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B23C3/00
- 本发明涉及一种用于雕刻的全方位铣刻机，包括铣刻定位台、铣刻机旋转机构、全方位铣刻机体，所述全方位铣刻机体设置在铣刻机旋转机构的顶侧，且全方位铣刻机体可在铣刻机旋转机构的顶侧转动，所述铣刻定位台设置在铣刻机旋转机构的内侧，且铣刻定位台设置在全方位铣刻机体的底侧，所述全方位铣刻机体由铣刻运行机构和弧架体组成，所述铣刻定位台由工作台面、固位臂脚组成。本发明优化了传统的雕刻方式，改进为一种具备全方位可以进行铣刻的雕刻方式，本雕刻机具有更加精准的控制，通过铣刻机旋转机构的转动，以及铣刻递进组件、稳定机架、深度行进铣刻机构的递进和行进，雕刻机可以具备全方位的铣刻
- 一种用于雕刻全方位铣刻机
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