专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]双光束重复捕获微球的方法及装置-CN202010790894.4有效
  • 李文强;李楠;胡慧珠;舒晓武;刘承 - 浙江大学
  • 2020-08-07 - 2021-06-04 - G01N21/84
  • 本发明公开了一种在双光束重复捕获微球的方法及装置。1)调节单光束与双光束捕获区间位于同一位置,使得微球可在任一模块完成捕获并可转换,利用成像装置完成对该区域的成像观测;2)起支特定微球,使得微球在单光束实现捕获,随后降低起支模块并打开双光束,实现捕获并逐渐关闭单光束;3)收集捕获微球,再次打开单光束,使得微球依靠单光束悬浮在空气,关闭双光束激光,然后升高起支模块,关闭单光束,使得捕获微球降落在起支模块上;4)需要重复捕获微球时本发明克服了传统系统每次捕获微球都不一致的缺陷,保证了系统的测量一致性。
  • 光束光阱中重复捕获方法装置
  • [发明专利]一种真空起支方法及装置与应用-CN202110128268.3有效
  • 傅振海;李翠红;高晓文;李楠;胡慧珠 - 之江实验室;浙江大学
  • 2021-01-29 - 2021-04-27 - G21K1/00
  • 本发明公开了一种真空起支方法及装置与应用。利用脉冲激光使微粒脱离基板;目标微粒进入离子先被捕获,并在离子不断减速至可捕获的速度并且位移至的有效捕获范围内时,打开光,使目标微粒同时被和离子捕获,之后关闭并挪走离子,或利用离子进一步冷却目标微粒的质心运动起支装置,包括基板、脉冲激光器、离子、控制装置,基板表面放置目标微粒,脉冲激光器位于基板的下方,离子位于基板的上方,离子的稳定捕获点重合,控制装置通过时序控制脉冲激光器、离子的开启时间本发明解决了常压起支带来的问题,也可将技术拓展应用到外太空等真空环境。
  • 一种真空光阱起支方法装置应用
  • [发明专利]一种一维微粒位移检测方法-CN201310042348.2有效
  • 胡慧珠;缪立军;舒晓武;刘承 - 浙江大学
  • 2013-01-31 - 2013-06-19 - G01B11/02
  • 本发明公开了一种一维微粒位移检测方法。本方法通过CCD采集得到微粒的运动视频,对视频的每一帧提取图像信息,并对每一帧提取的图像进行数字图像处理,从而得到微粒的实时位移信息。本发明采用图像数据降维处理的方法,将复杂的二维运算转换为简单的一维运算,大大降低了运算的复杂度,并通过数字图像处理方法得到亚像素级别的微粒位移信息,为分析粒子位置稳定度和力传感技术奠定了基础本发明的方法同样适用于二维的微粒位移检测。
  • 一种一维光阱微粒位移检测方法
  • [发明专利]P-LDMOS的制造方法-CN201210114133.2无效
  • 葛洪涛;黄晓橹 - 上海华力微电子有限公司
  • 2012-04-17 - 2012-08-01 - H01L21/336
  • 本发明公开了一种P-LDMOS的制造方法,包括:提供衬底,在所述衬底上形成深N;在所述深N形成隔离结构;在所述深N的漏极区域形成P,在所述深N的源极区域形成N;在所述深N上形成栅极;进行源漏轻掺杂工艺,在所述N和P内分别形成源极轻掺杂区和漏极轻掺杂区;在所述栅极的侧壁形成栅极侧墙;进行源漏重掺杂以及退火工艺。本发明在漏极采用深N和P取代传统P-LDMOS漂移区的罩,而在源极采用深N的N取代了传统体区罩,在制程减少了两个罩,在满足器件耐压的前提下有效降低了LDMOS器件的制造成本。
  • ldmos制造方法
  • [发明专利]N-LDMOS的制造方法-CN201210114134.7无效
  • 葛洪涛;黄晓橹 - 上海华力微电子有限公司
  • 2012-04-17 - 2012-08-01 - H01L21/336
  • 本发明公开了一种N-LDMOS的制造方法,包括:提供衬底,在所述衬底上形成深N;在所述深N形成隔离结构;在所述深N的漏极区域形成N,在所述深N的源极区域形成P;在所述深N上形成栅极;进行源漏轻掺杂工艺,在所述P和N内分别形成源极轻掺杂区和漏极轻掺杂区;在所述栅极的侧壁形成栅极侧墙;进行源漏重掺杂以及退火工艺。本发明在漏极采用深N和N取代传统N-LDMOS漂移区的罩,而在源极采用深N的P取代了传统体区罩,在制程减少了两个罩,在满足器件耐压的前提下有效降低了LDMOS器件的制造成本。
  • ldmos制造方法
  • [发明专利]N-LDMOS的制造方法-CN201210113713.X无效
  • 葛洪涛;黄晓橹 - 上海华力微电子有限公司
  • 2012-04-17 - 2012-08-01 - H01L21/336
  • 本发明公开了一种N-LDMOS的制造方法,包括:提供衬底,在所述衬底上形成深N;在所述衬底以及深N形成隔离结构;在所述深N内形成N,在所述衬底形成P;在所述衬底上形成栅极;进行源漏轻掺杂工艺,在所述P和N内分别形成源极轻掺杂区和漏极轻掺杂区;在所述栅极侧壁形成栅极侧墙,进行源漏重掺杂以及退火工艺。本发明在漏极采用深N和N取代传统N-LDMOS漂移区的罩,而在源极采用P取代了传统体区罩,在制程减少了两个罩,在满足器件耐压的前提下有效降低了LDMOS器件的制造成本。
  • ldmos制造方法
  • [发明专利]P-LDMOS的制造方法-CN201210113712.5无效
  • 葛洪涛;黄晓橹 - 上海华力微电子有限公司
  • 2012-04-17 - 2012-08-01 - H01L21/336
  • 本发明公开了一种P-LDMOS的制造方法,包括:提供衬底,在所述衬底上形成深N;在所述衬底以及深N形成隔离结构;在所述深N内形成P,在所述衬底形成N;在所述衬底上形成栅极;进行源漏轻掺杂工艺,在所述N和P内分别形成源极轻掺杂区和漏极轻掺杂区;在所述栅极侧壁形成栅极侧墙,进行源漏重掺杂以及退火工艺。本发明在漏极采用深N和P取代传统P-LDMOS漂移区的罩,而在源极采用N取代了传统体区罩,在制程减少了两个罩,在满足器件耐压的前提下有效降低了LDMOS器件的制造成本。
  • ldmos制造方法
  • [发明专利]一种微粒的起支方法及装置-CN202110144829.9有效
  • 傅振海;陈志明;李翠红;高晓文;李楠;胡慧珠 - 之江实验室;浙江大学
  • 2021-02-03 - 2021-04-27 - G21K1/00
  • 本发明提出了一种微粒的起支方法及装置。微粒的起支方法,将样品微粒的悬浮液通过雾化器雾化成微小液滴;液滴通过导流管进入到捕获区域;通过加热导流管使液滴的溶剂挥发后残留样品微粒;在导流管上端的气流接口引入干燥气流,通过流速控制样品微粒从导流管下端出射的运动速度;导流管的下端出口收缩,其内径尺寸略大于有效捕获区域的特征尺寸,小于微小液滴的特征尺寸,可使单个分散悬浮微粒通过而不让单个悬浮液滴通过。微粒的起支装置,包括雾化器、导流管、气流装置、。本发明可直接将微粒投送到的有效捕获区域,提高起支效率的同时,避免捕获多个微粒的情况,解决杂质微粒污染系统的问题。
  • 一种微粒方法装置
  • [发明专利]一种真空测量光轴上微弱磁场的装置和方法-CN202310577333.X在审
  • 陈杏藩;苏晶晶;李楠;胡慧珠 - 浙江大学;之江实验室
  • 2023-05-22 - 2023-08-22 - G01R33/00
  • 本发明公开了一种真空测量光轴上微弱磁场的装置和方法。真空腔内放置有高聚焦透镜、纳米介质球和磁场传感器,磁场传感器设置在光轴上,光束入射至真空腔内经高聚焦透镜的会聚后形成,纳米介质球上负载有电子,纳米介质球被激光光束在捕获。在高真空环境下,由光源发出的平面涡旋激光,经高聚焦透镜在形成高梯度力捕获场,纳米介质球被高梯度力场捕获并旋转。其电子通过旋转形成载流线圈,在真空中产生磁场,通过磁场传感器和计算机记录采集到的真空光轴上的磁场。本发明直接测量真空光轴上的磁场,无机械部件的摩擦,直接消除环境磁场因素对磁场探测造成的干扰误差,可实现磁场测量的高精度,高灵敏度。
  • 一种真空光阱中测量光轴微弱磁场装置方法
  • [实用新型]一种二维磁机装置-CN202121651035.3有效
  • 李军强;王先华;贾森 - 中国科学院西安光学精密机械研究所
  • 2021-07-20 - 2022-03-22 - G21K1/00
  • 本发明提供一种二维磁机装置,解决现有二维磁采用多根光纤,从而无法为三维磁提供高效的冷原子束流,降低三维磁的冷原子数目和装载率以及不利于小型化的问题。该二维磁机装置,包括真空腔体、冷却组件、分束组件、第一功率偏振控制组件、第二功率偏振控制组件、中转反射镜组件、第一反射镜组件、第二反射镜组件和再泵浦及推送组件;该装置是一种分别仅利用一根光纤传输冷却光束、推与再泵浦光合束的二维磁的激光光路系统和机械结构。
  • 一种二维磁光阱装置
  • [发明专利]离子腔耦合系统及方法-CN201810925152.0有效
  • 曹冬阳 - 华为技术有限公司
  • 2018-08-14 - 2021-11-19 - G21K1/00
  • 本申请实施例提供一种离子腔耦合系统及方法,其中,该系统包括:第一腔、第二腔以及包括直流电极对、接地电极对和射频电极对的离子系统,离子系统中排列有至少一个离子,至少一个离子的平衡位置所在直线且与第一腔的两个腔镜面垂直的直线为中心线,第二腔与中心线具有夹角,第一腔用于获取量子信号并将其发送至离子系统,以使该量子信号的量子信息转移到离子系统的单个离子,第二腔用于获取离子系统单个离子的量子信息。
  • 离子耦合系统方法

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