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[发明专利]光学拾取装置-CN200610001964.3有效
发明人：刘长勋;朴寿韩;金石中;张鹤炫;尹涌汉 -专利权人：三星电子株式会社;三星电机株式会社
申请日： 2006-01-23 - 公布日： 2006-08-02 - 主分类号： G11B7/135 文献下载
摘要：本发明提供了一种减小从光学记录介质照射出的光中出现的像差的光学拾取装置。该装置包括：光源，输出光，用于记录和再现光学记录介质上的信息；物镜，通过会聚光将光照射到光学记录介质上；致动器，调节物镜的运动以在光学记录介质的至少一层或者多层上形成光的焦点；控制器，通过驱动致动器来寻找物镜的位置以减小在照射到光学记录介质上的光中形成的像差
光学拾取装置

[发明专利]改进读信号特性的光学头-CN200580041365.8无效
发明人：小野泽和利;山中一彦;东条友昭;奥田拓也;井岛新一;久保淳一 -专利权人：松下电器产业株式会社;纳卢克斯株式会社
申请日： 2005-12-01 - 公布日： 2007-11-07 - 主分类号： G11B7/135 文献下载
摘要：在一种可操作用于从光学记录介质读取和向光学记录介质记录的光学头中，由第一反射镜将由光发射元件发射的光束反射向光发射元件，并且由第二反射镜将该反射的光束反射向光学记录介质，并且将其聚焦到光学记录介质的记录表面上在这种情况下，第一反射镜阻挡了从第二反射镜向光学记录介质传播的光束的主光线，并且第二反射镜包括以光束的主光线为中心的、并且彼此分离预定间隔的多个同心环形镜。
改进信号特性光学

[发明专利]一种用于低应力全介质光学薄膜的制备方法-CN202010422923.1有效
发明人：郭春;孔明东 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2020-05-19 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于低应力全介质光学薄膜的制备方法，属于真空镀膜技术领域，主要针对全介质光学薄膜中限制薄膜机械特性进而影响光学系统的光束传输和成像质量的关键因素——应力，采用高能辅助沉积技术，通过优化光学薄膜制备工艺参数，实现总应力小于2MPa的全介质光学薄膜制备。相对于传统的镀膜前光学元件镀膜面预加工、镀膜后光学元件背面拉面形，或者高温退火后处理等技术，本发明操作流程简单、执行成本低，适用于各种材质、尺寸和形状的光学元件低应力全介质光学薄膜制备。
一种用于应力介质光学薄膜制备方法

[发明专利]降低了功耗的光学记录装置-CN200580035641.X无效
发明人： H·范德卡尔;J·A·L·J·拉伊马克斯 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2005-10-07 - 公布日： 2007-09-26 - 主分类号： G11B19/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种能够在写入模式中将信息写到光学介质上、且在标签模式将标签图像写在光学介质上的光学记录装置。该装置具有一个可移置的光学头，光学头具有一个能发射辐射的辐射源。该装置还包括一个或更多的处理装置，该处理装置被配置成：分析从光学介质反射的辐射，控制光学头的径向位置，相对于光学介质控制辐射的焦点，以及控制该辐射源。在标签模式中，该光学记录装置被配置成在一个预定的时间段关闭至少一个所述处理装置，以便降低功耗并由此降低该装置的温度。
降低功耗光学记录装置

[发明专利]一种相位延迟元件及相位延迟装置-CN202011566667.X有效
发明人：吕亮;赵恒;张明骁;蒲云体;蔡超;卢忠文;乔曌;彭东旭;何祥 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2020-12-25 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种相位延迟元件，包括基底和光学介质层，光学介质层形成在基底表面，光学介质层用于将入射光反射出以及将入射光相互正交的两偏振态分量经过光学介质层后的相位偏移量造成差量。与现有的采用晶体制作的波片相比，本相位延迟元件采用光学介质层制作，能够承受较高的激光功率，能够提高对激光的抗损伤能力。本发明还公开一种相位延迟装置。
一种相位延迟元件装置

[发明专利]光学记录介质以及光学记录介质的记录/读取方法和装置-CN200610156641.1无效
发明人：野田善宏;久保秀之 -专利权人：三菱化学媒体股份有限公司
申请日： 2003-12-12 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： G11B7/0045 文献下载
摘要：本发明公开了光学记录介质以及光学记录介质的记录/读取方法和装置。所述光学记录介质具有可以通过从其一侧照射激光来在其上记录信息或从其中读取信息的多个记录层，所述记录/读取方法包括以下步骤：从所述多个记录层中的每一个记录层读取循轨信息；根据所述多个记录层中的每一个记录层的循轨信息来确定所述光学记录介质的结构；根据所述光学记录介质的结构来记录或读取信息。
光学记录介质以及读取方法装置

[发明专利]具有提高的数据纠错能力的再现数据的方法和设备-CN200780001586.1无效
发明人：金炫廷;黄盛凞 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2007-01-12 - 公布日： 2009-02-04 - 主分类号： G11B20/10 文献下载
摘要：一种将数据记录在光学记录介质上和/或从光学记录介质再现数据的方法和设备。所述方法包括：从光学记录介质检测摆动信号；从检测的摆动信号预测摆动信道状态；从光学记录介质检测信息信号；从检测的信息信号预测信息信道状态。如果从光学记录介质发现损坏部分，则基于关于摆动信道状态的信息或者关于信息信道状态的信息对信息信号进行解码。因此，通过预测信息(RF)信号的信道状态和摆动信号的信道状态能够更有效地再现数据。
具有提高数据纠错能力再现方法设备

[发明专利]用于制造三维物体的系统和方法-CN201380069753.1有效
发明人：苏曼·达斯;袁大军;阿尼路德·卢拉拉贾;保罗·茨里诺 -专利权人： DDM系统有限责任公司
申请日： 2013-11-08 - 公布日： 2018-11-06 - 主分类号： B29C45/14 文献下载
摘要：该系统包括一个光学成像系统，所述光学成像系统提供一个光源；一个感光介质，当曝光于来自所述光学成像系统的所述光源的一部分时，所述感光介质适用于改变状态；一个控制系统，用于控制所述光学成像系统的移动，其中所述光学成像系统在所述感光介质上连续地移动所述方法包括移动一无掩模光学成像系统，该无掩模光学成像系统以一种连续序列提供所述光束；将所述光束呈现在所述感光介质的一部分上；降下所述感光介质所在的一个板；以及应用所述感光介质的一个新层。
用于制造三维物体系统方法

[发明专利]光学拾取设备、光学记录和再现设备及方法-CN200510088485.5无效
发明人：山本健二;佐藤克利;西纪彰;金谷绿;莳田真哉 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2005-08-02 - 公布日： 2006-03-15 - 主分类号： G11B7/12 文献下载
摘要：一种光学拾取设备，包括：半导体激光器，用来发射具有至少从400nm至415nm的波长的激光，并且其与活性层相平行的平面基本上与光学记录介质的记录表面相平行地布置；和一个反射表面，用来在与光学记录介质的记录表面基本相垂直的方向上反射从半导体激光器发射的激光，激光通过物镜照射在光学记录介质上以对光学记录介质进行记录和/或再现，其中在从半导体激光器引入到反射表面中的光线的方向与其中光学记录介质的记录轨道延伸的方向之间形成的角度θ被选择成满足：45°≤θ＜90从而可通过把具有最佳外形的射束点的光照射在记录轨道上而保持满意的记录和再现特性，该光学记录介质包括一种具有BD(蓝光盘)型构造的光学记录介质。
光学拾取设备记录再现方法

[发明专利]用于对受保护表面的防污垢的发光装置-CN201780046242.6有效
发明人： H·J·科内利森;B·A·索泰斯;R·B·希特布林克 -专利权人：皇家飞利浦有限公司
申请日： 2017-07-24 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： B08B17/02 文献下载
摘要：一种用于对表面(30)的防污垢的发光装置(100)，包括光学介质(10)和用于发射防污垢光的至少一个光源(20)。最靠近光源(20)的装置(100)的第一区域(1)被布置和配置为主要使防污垢光以镜面方式朝向光学介质(10)的发射表面(12)反射通过光学介质(10)，装置(100)的第二区域(2)被布置和配置为主要实现防污垢光通过全内反射传播通过光学介质(10)，并且距离光源(20)最远的装置(100)的第三区域(3)被布置和配置为主要使防污垢光通过光学介质(10)的发射表面(12)散射出光学介质(10)。
用于保护表面污垢发光装置

[发明专利]光学拾取装置和光学记录/重放装置-CN200710128683.9无效
发明人：梶原桂一郎 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2007-07-05 - 公布日： 2008-02-20 - 主分类号： G11B7/12 文献下载
摘要：本发明提供一种能够实现稳定的部件精度、提高生产率、降低成本并且不会损伤光盘的光学拾取装置和光学记录/重放装置。本发明的光学拾取装置利用激光对光学信息记录介质中的信息进行重放或者将信息记录在上述光学信息记录介质中，包括：壳体，被形成为覆盖该光学拾取装置的筐体，至少在安装上述光学信息记录介质时与上述光学信息记录介质相对的面上形成有开口部
光学拾取装置记录重放

[发明专利]基于微透镜阵列与脉冲激光的弥散介质光学参数场重建装置及其重建方法-CN201610348998.3有效
发明人：乔要宾;齐宏;阮世庭;阮立明;谈和平;许传龙;张彪 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2016-05-24 - 公布日： 2019-01-08 - 主分类号： G06T3/40 文献下载
摘要：基于微透镜阵列与脉冲激光的弥散介质光学参数场重建装置及其重建方法，属于红外光学成像领域。目前缺少通过微透镜阵列测量光场信号的技术方法。基于微透镜阵列与脉冲激光的弥散介质光学参数场重建装置，数据采集处理系统(7)连接激光控制器(1)和三个微透镜阵列光场相机；激光控制器(1)连接激光头(2)，激光头(2)和三个微透镜阵列光场相机围成的区域中心设置弥散介质基于微透镜阵列与脉冲激光的弥散介质光学参数场重建方法，包括介质边界出射辐射测量、近红外脉冲激光在弥散介质的传输计算、光学参数场重建环节。本发明实现对弥散介质光学参数场的重建，为近红外光学成像和红外探测技术提供新的技术手段。
基于透镜阵列脉冲激光弥散介质光学参数重建装置及其方法

[发明专利]一种缩聚、传输光线的空气过滤网-CN201210275564.7无效
发明人：王玄极 -专利权人：成都易生玄科技有限公司
申请日： 2012-08-05 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： B01D53/76 文献下载
摘要：一种缩聚、传输光线的空气过滤网，包括：光线收集装置、光线传输装置、光学介质的短通道、二氧化钛颗粒，其特征在于：通过将空气中的氧分子、水分子激发成自由负离子，自由负离子氧化分解空气中的有机物和部分无机物；用光学介质制成短通道，光学介质的短通道集成为网状结构，光学介质的短通道内、外表面分布不连续的二氧化钛颗粒，光线收集装置与光线传输装置连接，光线传输装置的终端与光学介质的短通道外表面的光线入射接口连接，光线照射光学介质的短通道内、外表面分布的不连续二氧化钛颗粒，光学介质的短通道内、外表面的氧分子、水分子激发成极具氧化力的自由负离子。
一种缩聚传输光线空气过滤网

[发明专利]光学记录介质和它的制造方法-CN03800440.2无效
发明人：山崎刚;行本智美 -专利权人：索尼公司
申请日： 2003-03-20 - 公布日： 2004-07-28 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：一种光学记录介质和制造这种光学记录介质的方法，该光学记录介质可以减少位于多个光学记录层之间的隔层的膜厚不均匀度，并且可以减少转印基体的扭曲影响及减少产生灰尘和毛口问题等。光学记录介质具有这样的结构：通过隔层(12)进行叠置的至少两个光学记录层(11、13)和光透射层(14)设置在介质基体(10)的至少一个表面上，其中光透射层(14)设置在光学记录层上，该光学记录介质借助通过光透射层(14)把光照射到光学记录层(11、13)上进行记录和再现，及隔层包括事先形成膜的至少一层紫外线硬化树脂膜，并且是形成有不平形状的膜，这种不平形状与记录凹陷相对应，或者这种不平形状(12p)是位于它表面上的导向槽
光学记录介质制造方法

[发明专利]用于光学器件的混合物-CN201780051444.X在审
发明人： S·哈利勒;E·沙维夫 -专利权人：默克专利股份有限公司
申请日： 2017-08-18 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： C09K11/02 文献下载
摘要：本发明涉及包含半导体纳米晶的混合物、光学介质、光学器件以及其制造，本发明进一步涉及混合物的用途和光学介质在光学器件中的用途。
光学器件混合物光学介质半导体纳米晶制造