专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]N-芳肼衍生物在动物中和动物上防治害虫的用途-CN200480036166.3无效
  • W·冯戴恩;H·奥隆米-萨迪吉;D·G·库恩;N·阿梅斯;C·科拉迪恩;A·泽勒 - 巴斯福股份公司
  • 2004-12-02 - 2007-01-03 - A01N37/52
  • 或环烷基、烷基氨基、烷基氨基、烷基羰基氨基、烷基磺酰或烷基亚磺酰,其中这些基团中的碳原子可以被取代,或R1和R2可以一起形成由结构(V)代表的环;p、m为1、2或3;X’为氧、、氨基、烷基氨基、苯基氨基或亚甲基;Z为烷基或苯基;R3为H、烷基、链烯、炔、环烷基,其中这些基团中的碳原子可以被取代;R、R4为H或烷基、氧羰基、烷基氨基羰基或烷基氨基羰基,其中这些基团中的碳原子可以被取代;A为C-R5或N;B为C-R6或N;W为C-R7烷基氨基、、烷基磺酰或烷基亚磺酰,其中这些基团中的碳原子可以被取代,可以含有1-4个选自氧、和氮的杂原子且可以被取代的5-6元芳族环体系;Y为氢、卤素、氰、硝基、氨基、羟基、巯基、烷基、链烯、炔、环烷基、氧基、烷基氨基、烷基氨基、、烷基磺酰或烷基亚磺酰,其中这些基团中的碳原子可以被取代;n为0、1或2。
  • 芳基肼衍生物动物中和防治害虫用途
  • [发明专利]哒嗪衍生物-CN200780042872.2无效
  • S·特拉赫;C·拉姆比尔斯;S·温德伯恩 - 先正达参股股份有限公司
  • 2007-10-23 - 2009-09-16 - C07D237/08
  • /sub>-C6卤代烷基或C3-C6环烷基;R2是环烷基、环烷基烷基、卤代环烷基、环烷氧基、卤代环烷氧基、环烷基氧基、卤代环烷基氧基、氧基烷基、环烷氧基氧基烷基、卤代氧基烷基、三烷基甲硅烷基、烷基、卤代烷基、环烷、卤代环烷、环烷基、卤代环烷基、烷基亚磺酰烷基、烷基磺酰烷基、烷基亚磺酰、卤代烷基亚磺酰、烷基磺酰、卤代烷基磺酰、C2-C6、C2-C6、可选取代的芳磺酰、可选取代的芳氧基、可选取代的杂芳氧基、可选取代的芳、可选取代的杂芳;或R2与相邻的碳原子一起形成可选取代的稠环;R3是可选的取代芳;R4<、C1-C6卤代氧基、羟基或氰;和n是1到4的整数;或其农业上可使用的盐形式。
  • 衍生物
  • [发明专利]4-氨基-2--5-嘧啶甲醛的制造方法-CN200680014022.7无效
  • 西野繁荣;敷田庄司;村上正 - 宇部兴产株式会社
  • 2006-04-24 - 2008-04-23 - C07C253/30
  • 提供能够通过简便的方法高收率地制造4-氨基-2--5-嘧啶甲醛的工业上适用的4-氨基-2--5-嘧啶甲醛的制造方法、及用于该制造方法的中间体化合物、以及能够简便且安全地以高收率制造该中间体化合物的工业上适用的制造方法本发明涉及3,3-氧基-2-羟基亚甲基丙腈的碱金属盐的制造方法,其特征在于,在包含碱金属的碱的存在下,在-10℃~30℃使选自3,3-氧基丙腈和3-氧基-2-丙烯腈所组成的组中的至少一种腈化合物与甲酸酯反应;4-氨基-2-巯基-5-嘧啶甲醛的碱金属盐;4-氨基-2-巯基-5-嘧啶甲醛的碱金属盐的制造方法,其特征在于,使3,3-氧基-2-羟基亚甲基丙腈的碱金属盐与硫脲反应;4-氨基-2--5-嘧啶甲醛的制造方法,其特征在于,使4-氨基-2-巯基-5-嘧啶甲醛的碱金属盐与烷基化剂反应;4-氨基-2-巯基-5-嘧啶甲醛的碱金属盐以及在4-氨基-2--5-嘧啶甲醛的制造中的用途。
  • 氨基烷硫基嘧啶甲醛制造方法
  • [发明专利]C5a受体拮抗剂-CN200680019441.X无效
  • 卡斯滕·施纳特鲍曼;迪尔克·沙恩;埃尔莎·洛卡尔迪;托马斯·波拉科弗斯基;乌韦·里希特;乌尔里希·赖内克;格尔德·胡梅尔 - 捷瑞尼股份公司
  • 2006-05-30 - 2008-05-28 - C07C275/40
  • R3,R4,R5,R6,R7,R8,R9,R10,R11,R12,R13,R14,R15,R16,R17,R18,R19,R20,R21和R22各自和独立地选自包含下列各项的组:H,烷基,取代的烷基,烯,取代的烯,炔,取代的炔,环烷基,取代的环烷基,杂环,取代的杂环,芳,取代的芳,杂芳,取代的杂芳,芳烷基,取代的芳烷基,杂芳烷基,取代的杂芳烷基,氧基,取代的氧基,芳氧基,取代的芳氧基,芳烷基氧基,取代的芳烷基氧基,酰氧基,取代的酰氧基,卤素,羟基,硝基,氰,酰,取代的酰,巯基,,取代的,氨基,取代的氨基,烷基氨基,取代的烷基氨基,烷基氨基,取代的烷基氨基,环状氨基,取代的环状氨基,氨基甲酰(-CONH2),取代的氨基甲酰,羧基,氨基甲酸酯,氧羰基,取代的氧羰基,酰氨基,取代的酰氨基,氨磺酰(-SO2NH2),取代的氨磺酰,卤烷基,卤烷基氧基,-C(O)H,三烷基甲硅烷基和叠氮
  • c5a受体拮抗剂
  • [发明专利]吡唑并[1,5-a]嘧啶衍生物-CN95190760.3无效
  • 小路恭生;安田恒雄;井上诚;冈村隆志;桥本谨治;小原正之 - 株式会社大塚制药工场
  • 1995-06-05 - 1999-11-24 - C07D487/04
  • 其中R1是氢,可以有噻吩、低级氧基、低级院、氧基或羟基作为取代的低级烷基,环烷基、噻吩、呋喃、低级链烯、或是可以有选自低级烷基、低级氧基、苯和卤素的1到3个取代的苯基;R2是萘,环烷基、呋喃、噻吩、可任选被卤素取代的吡啶,可任选被卤素取代的苯氧基,或是可以有选自低级院、低级氧基、卤素、硝基、卤素取代的低级烷基、卤素取代的低级氧基、低级氧羰基、羟基、苯基(低级)氧基、氨基、氰、低级酰氧基、苯基和(低级)氧基磷酰(低级)烷基的1到3个取代的苯基;R3是氢、苯基或低级烷基R4是氢、低级烷基、低级氧羰基、苯基(低级)烷基,可任选被苯取代的苯基,或是卤素;R5是氢或低级烷基;R6是氢,低级烷基,苯基(低级)烷基,或是有选自低级氧基、卤素取代的低级烷基和卤素的1到3个取代的苯甲酰基R1和R5可以一起形成低级亚烷基Q是碳或磺酰;A是一个单键,低级亚烷基或低级亚烯
  • 吡唑嘧啶衍生物

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