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- [实用新型]液气两相雾化喷嘴-CN201220000554.8有效
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王科远;杨刚
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江苏科能电力机械有限公司
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2012-01-04
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2012-10-10
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B05B7/04
- 本实用新型属于喷射设备技术领域,涉及一种雾化喷嘴,尤其是涉及一种液气两相雾化喷嘴。它解决了现有雾化喷嘴雾化颗粒直径大、雾化液体不稳定、喷雾范围不均、雾化效果差等技术问题。本液气两相雾化喷嘴,包括液体腔、气体腔、混合腔和喷孔,液体腔和气体腔均与混合腔相通,混合腔与喷孔相通,在液体腔和气体腔上分别设有液体入口和气体入口,在喷孔的外端设有扩散头,扩散头与喷孔连接并相通。本实用新型设计合理、结构简单,能使气体和液体充分混合,设置在喷孔前端的扩散头,能够减小雾化颗粒的直径、达到更好的雾化效果。
- 两相雾化喷嘴
- [发明专利]气液两相雾化清洗装置及清洗方法-CN201510261375.8有效
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滕宇;吴仪
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北京七星华创电子股份有限公司
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2015-05-21
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2017-03-15
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B08B3/02
- 本发明提供了一种气液两相雾化清洗装置,涉及半导体晶片工艺技术领域,包括气体管道、液体管道以及气液两相雾化喷嘴,气体管道和液体管道的一端设置在摆臂上,其另一端连通气液两相雾化喷嘴以形成雾化颗粒,摆臂带动气液两相雾化喷嘴在晶片边缘与晶片中心之间做圆弧往复运动本发明通过气液两相雾化喷嘴结构,使高速液体流与高速气体流充分的相互作用,并通过调整气体流速和小流量液体流速,形成颗粒尺寸均一的超微雾化液滴,经过高速气体流加速以后,喷射在晶片表面,完成清洗,本发明促进了沟槽中杂质向流体主体的传递,提高清洗的效率,改善清洗效果,由于雾化颗粒的质量小,减少了对晶片表面图形结构的损伤。
- 两相雾化清洗装置方法
- [实用新型]一种气液两相雾化清洗装置-CN201520330359.5有效
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滕宇;吴仪
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北京七星华创电子股份有限公司
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2015-05-21
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2015-11-11
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B08B3/02
- 本实用新型提供了一种气液两相雾化清洗装置,涉及半导体晶片工艺技术领域,包括气体管道、液体管道以及气液两相雾化喷嘴,气体管道和液体管道的一端设置在摆臂上,其另一端连通气液两相雾化喷嘴以形成雾化颗粒,摆臂带动气液两相雾化喷嘴在晶片边缘与晶片中心之间做圆弧往复运动本实用新型通过气液两相雾化喷嘴结构,使高速液体流与高速气体流充分的相互作用,并通过调整气体流速和小流量液体流速,形成颗粒尺寸均一的超微雾化液滴,经过高速气体流加速以后,喷射在晶片表面,完成清洗,本实用新型促进了沟槽中杂质向流体主体的传递,提高清洗的效率,改善清洗效果,由于雾化颗粒的质量小,减少了对晶片表面图形结构的损伤。
- 一种两相雾化清洗装置
- [实用新型]雾化喷嘴式分流器及制冷系统-CN201920792507.3有效
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孙志利
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天津商业大学
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2019-05-29
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2020-05-08
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F25B41/06
- 本实用新型涉及制冷技术领域,尤其涉及一种雾化喷嘴式分流器,其特征在于,包括雾化阶段、流型整定阶段和临界分流阶段,所述雾化阶段包括两相流供液管和雾化喷嘴,所述流型整定阶段包括整流器,所述临界分流阶段包括分流体、隔板、分配室、音速喷嘴、分流管、供液腔、环形分配腔;所述两相流供液管内部安装有雾化喷嘴,所述两相流供液管的出口与所述整流器的进口连接,所述整流器的出口与所述供液腔连接。本实用新型的分流器通过雾化喷嘴、流体整流器将膨胀节流后的气液两相制冷剂的流型调整为理想雾状流,再通过各流路前的音速喷嘴实现向蒸发器各流路均匀供液,改善了蒸发器的换热性能,提高蒸发器的制冷能力。
- 雾化喷嘴式分流器制冷系统
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