专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]电脱盐污水预处理除油系统-CN201621431210.7有效
  • 魏伟;肖凡;汤文华 - 上海东振环保工程技术有限公司
  • 2016-12-23 - 2017-07-21 - C02F9/04
  • 本实用新型提供了一种电脱盐污水预处理除油系统,其包括依次连接的气能絮凝装置和多相流气浮装置,所述多相流气浮装置包括多相流气浮槽、多相流气浮刮渣机,所述多相流气浮槽内由多相流气浮混凝区挡板、多相流气浮絮凝区挡板、多相流气浮溶气释放区挡板和多相流气浮清水区隔板将多相流气浮槽分隔成多相流气浮混凝区、多相流气浮絮凝区、多相流气浮溶气释放区、多相流气浮分离区和多相流气浮清水区。本实用新型的气能絮凝与多相流气浮组成的组合装置对于含不同浓度乳化油和COD的电脱盐污水均具有较好的处理效果,能有效应对电脱盐污水的水质波动、耐冲击性强。
  • 脱盐污水预处理系统
  • [实用新型]平衡重量按摩式缓冲对流气囊垫-CN201720269854.9有效
  • 蔡佩霖 - 东莞市佳栓实业有限公司
  • 2017-03-18 - 2018-03-09 - A45C13/30
  • 一种平衡重量按摩式缓冲对流气囊垫,包括垫体、对流气室,所述对流气室突出于垫体表面设置,具有复数个;对流气室之间通过气流通道进行连接。通过充有气体的对流气室,可对承重部位进行减震、减压缓冲,平抑短暂的重量失衡;对流气室突出于垫体表面便于进行散热,对流气室两个以上的气流通道,便于对流气室之间形成空气流动和对流,从而使对流气室具有按摩的作用;通过多组对流单元布局,可有效防止某个对流单元中某一对流气室破裂导致的该对流气室气体逸出后,破坏平衡重量按摩式缓冲对流气囊垫的整体效果;通过相邻对流气室间设的气流通道低于对流气室的高度,以控制对流气室的空气含量
  • 平衡重量按摩缓冲对流气囊
  • [实用新型]一种圆形单管真空炉环流气调节装置-CN202221965347.6有效
  • 周伟;赵占山;任涛;朱韶哲;付有彭 - 日照钢铁控股集团有限公司
  • 2022-07-28 - 2023-03-28 - C21C7/10
  • 本实用新型提供了一种圆形单管真空炉环流气调节装置,包括:插入管,所述插入管一端的左侧开设有若干个强侧环流气孔,所述插入管一端的右侧开设有若干个弱侧环流气孔,所述弱侧环流气孔和所述强侧环流气孔的内部均固定套接有环流管,所述环流管的内部固定套接有环流气出气管路;流量调节组件,所述流量调节组件设置在环流气出气管路的一侧,用于环流气流量分级调节,通过设置流量调节器,单管真空炉的插入管上进行360°弱侧环流气孔和强侧环流气孔布置,使弱侧环流管路的环流气出气管路和强侧环流管路的环流气出气管路与其连接在一起后,再通过流量调节器,对环流气流量进行分级调节,实现单管真空炉对脱碳、造渣脱硫、去除夹杂物等功能的需求。
  • 一种圆形真空炉环流调节装置
  • [实用新型]气体混合装置-CN201520877880.0有效
  • 吴鸿斌;谭斌;马丽;李绒花;赵宇波 - 深圳创新设计研究院有限公司
  • 2015-11-05 - 2016-03-30 - B01F5/06
  • 本实用新型公开了一种气体混合装置,包括设置在主流通道的入口内壁面上且用于混合入口主流气体与通道引流气体的至少一个涡流发生器,所述涡流发生器朝向所述入口主流气体的一面与所述入口主流气体的流向之间呈小于90本实用新型通过在主流通道的入口内壁面上设置至少一个涡流发生器,且涡流发生器朝向入口主流气体的一面与入口主流气体的流向之间呈小于90度的夹角,使得其能够诱导入口主流气体在涡流发生器的边界处产生翼尖涡,从而促使气流产生较大漩涡,进一步将通道引流气体也卷入到入口主流气体中,从而实现有效混合。
  • 气体混合装置
  • [实用新型]真空吸附台架-CN202220604545.3有效
  • 郑永国;梅海翱;向远清;向远月;杨检 - 佛山市科雷数控机械有限公司
  • 2022-03-18 - 2022-08-02 - B23Q3/08
  • 本实用新型公开了真空吸附台架,包括:导轨,其内设有气腔,导轨设有连通于气腔的主气孔和多个分流气孔,分流气孔延伸至导轨的上表面,每个分流气孔均为沉头孔,每个分流气孔内均放置有活动堵头,每个活动堵头均为磁性构件;滑块,其滑动连接于导轨,滑块的下底面设有导流气孔,导流气孔导通至滑块的上表面,导流气孔的移动路径经过所有的分流气孔,滑块的下底面设有延伸至导流气孔的磁性件,磁性件与活动堵头相互吸引。
  • 真空吸附台架

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