[发明专利]喇曼光谱测定仪和方法无效
申请号: | 95193313.2 | 申请日: | 1995-05-15 |
公开(公告)号: | CN1079533C | 公开(公告)日: | 2002-02-20 |
发明(设计)人: | 丹尼尔·查尔斯·阿斯米尔;布芮达·阿谢克·伽拉;文森特·阿尔特·尼塞里 | 申请(专利权)人: | 伊斯特曼化学公司 |
主分类号: | G01J3/44 | 分类号: | G01J3/44 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 程伟 |
地址: | 美国田*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提出了一种可以测量并且补偿其中的变化的喇曼光谱测定仪,它由以下几个部分组成单色光辐射源;同时辐射样本和参考物质的装置;同时在多个波长处获取样本的卷积喇曼光谱和参考物质的卷积喇曼光谱的装置;以及确定卷积光谱的卷积函数,并应用卷积函数来调整样本的卷积喇曼光谱以由此产生样本的标准喇曼光谱的装置、本发明还提供了一种获取样本的标准喇曼光谱的方法;此方法包括以下步骤(a)用单色光辐射源同时辐射样本和参考物质;(b)同时在多个波长处获取样本的卷积光谱和参考物质的卷积光谱;(c)选择参考物质的标准光谱;(d)由样本的卷积喇曼光谱,参考物质的卷积光谱,和参考物质的标准光谱确定卷积光谱的卷积函数;和(e)运用卷积函数来调整样本的卷积光谱,以由此产生样本的标准喇曼光谱。 | ||
搜索关键词: | 光谱 测定 方法 | ||
【主权项】:
1.一种可以测量并且补偿在仪器中产生的变化的喇曼光谱测定仪,包括基本单色光的辐射源,其特征在于:可同时用所述辐射接触样本和参考物质的装置;在多个波长处同时获取所述样本的卷积喇曼光谱和所述参考物质的卷积光谱的装置;以及由所述卷积光谱和所述参考物质的标准光谱决定所述卷积光谱的卷积函数,并应用所述卷积函数来调整所述样本的所述卷积喇曼光谱以由此产生所述样本的标准喇曼光谱的装置。
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