[发明专利]一种拉曼增强基底及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202310659556.0 申请日: 2023-06-05
公开(公告)号: CN116930145A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 李志远;杨海遥;莫昊燃 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: G01N21/65 分类号: G01N21/65;B22F1/054;B82Y40/00
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 齐键
地址: 510641 广*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种拉曼增强基底及其制备方法和应用,本发明中拉曼增强基底包括从下至上依次设置的基底层、贵金属层、隔离层、单层二维材料层,所述单层二维材料层表面负载有贵金属纳米颗粒。本发明中,负载于基底上的贵金属层与贵金属纳米颗粒形成纳米谐振腔,隔离层用以调控谐振腔的间距,检测时,单层二维材料层能吸附待测物分子,使得入射光线在谐振腔内与待测物分子相互作用,从而使待测物分子的拉曼散射同时得到谐振腔的电磁增强和二维材料的化学增强,实现单分子的拉曼成谱。
搜索关键词: 一种 增强 基底 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
暂无信息
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