[发明专利]投射图像的校正方法和投射系统在审
| 申请号： | 202310309684.2 | 申请日： | 2023-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN116896613A | 公开（公告）日： | 2023-10-17 |
| 发明（设计）人： | 远藤雅明 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H04N9/31 | 分类号： | H04N9/31 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 方冬梅;欧阳柳青 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 提供投射图像的校正方法和投射系统，减少误操作，提高用户的便利性。照相机(200)在拍摄投射面(10)而得到的多个拍摄图像组中检测到由指示装置(300)照射到投射面(10)的满足第1条件的光的情况下，基于拍摄图像组中的满足第1条件的光的位置，将多个控制点(S)中包含的至少1个控制点(S)选择为选择状态的控制点(S)，在拍摄图像组中检测到由指示装置(300)照射到投射面(10)的满足与第1条件不同的第2条件的光的情况下，基于拍摄图像组中的检测到的满足第2条件的光的位置的变化，向投影仪(100)发送变更选择状态的控制点(S)的位置的指示。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 图像 校正 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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