[实用新型]一种X-ray对位成像机构有效

专利信息
申请号: 202223260136.5 申请日: 2022-11-30
公开(公告)号: CN218628181U 公开(公告)日: 2023-03-14
发明(设计)人: 叶晓军;李哲轩 申请(专利权)人: 深圳市泰科思特精密工业有限公司
主分类号: G01B15/00 分类号: G01B15/00;H05K3/00
代理公司: 深圳市中科创为专利代理有限公司 44384 代理人: 杨春;徐方星
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开一种X‑ray对位成像机构,包括:支架、安装在所支架上的X‑ray发射单元、与所述X‑ray发射单元相配合的X‑ray接收单元、遮光罩、安装在所述支架上的清洁单元,所述遮光罩套在所述X‑ray发射单元上;所述X‑ray发射单元用于发射X‑ray射线,所述X‑ray接收单元用于接收所述X‑ray发射单元发射的X‑ray射线;所述遮光罩用于在X‑ray发射单元发射X‑ray射线时,罩住放置于X‑ray接收单元上的板材的靶标位;所述清洁单元用于产生高压气体清洁X‑ray接收单元的上侧面。本实用新型可实现X‑ray接收单元的上表面的清洁,防止因积累的灰尘颗粒附着在X‑ray接收单元上,划伤放置于其上的板材的板面的问题,提高板材的产品良率。
搜索关键词: 一种 ray 对位 成像 机构
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