[实用新型]cvd金刚石制备反应腔冷却结构有效
申请号: | 202223191764.2 | 申请日: | 2022-11-30 |
公开(公告)号: | CN219099303U | 公开(公告)日: | 2023-05-30 |
发明(设计)人: | 刘小利 | 申请(专利权)人: | 常州宝颐金刚石科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/27;F25D17/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 213000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种cvd金刚石制备反应腔冷却结构,包括外层圆柱腔、内层反应腔、第一隔水板和第二隔水板,所述内层反应腔置于外层圆柱腔内,所述内层反应腔的外壁上呈环形阵列设置有纵向条状凹槽,所述外层圆柱腔上设置有第一进水口、第二进水口、第一回水口、第二回水口。本结构通过在内层反应腔的外表面设置纵向条状凹槽,能够使内层反应腔的外壁与冷却循环水的散热接触面积增加1.3‑1.5倍,通过隔水板将外层圆柱腔、内层反应腔之间的循环水流动区域进行等分,再增设一组进水口和回水口,降低单个进水口的注水压力,缓解了对内层反应腔的外壁纵向条状凹槽的冲刷力,延长了内层反应腔的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | cvd 金刚石 制备 反应 冷却 结构 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的