[实用新型]一种方便调整可视角度的光刻膜有效
申请号: | 202220463225.0 | 申请日: | 2022-03-04 |
公开(公告)号: | CN217543654U | 公开(公告)日: | 2022-10-04 |
发明(设计)人: | 蒋福龙;王涛 | 申请(专利权)人: | 三海威(深圳)新材料科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 深圳众邦专利代理有限公司 44545 | 代理人: | 王金刚 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙华区大*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种方便调整可视角度的光刻膜,包括膜体,膜体的表面上设置有支撑机构,支撑机构的上端设置有欧遮挡机构,支撑机构包括基板,基板固定连接在膜体的下表面上,基板的两端均开设有插孔,两个插孔的内部均插接有插杆,两个插杆的上端固定连接有同一个压环,膜体的中心处开设有蚀刻槽,本实用新型的有益效果是:通过外部的照射装置按压两个半圆板围绕转轴转动,使半圆板盖在压环的上表面上,通过半圆板将膜体的上表面挡住,只通过两个半圆槽使照射装置与蚀刻槽对应,当启动外部照射装置时,倾斜的散射光线被半圆板挡住,使散射的光线无法照射在膜体上,防止影响制成的圆晶芯片的质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 方便 调整 可视 角度 光刻 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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