[发明专利]制造垂直解聚集光子设备的装置和方法在审
| 申请号： | 202210579110.2 | 申请日： | 2022-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN115524803A | 公开（公告）日： | 2022-12-27 |
| 发明（设计）人： | H·布劳尼施;A·埃尔谢尔比尼 | 申请（专利权）人： | 英特尔公司 |
| 主分类号： | G02B6/42 | 分类号： | G02B6/42;G02B6/43;G02B6/12 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 林金朝 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了装置和制造方法。在一个示例中，装置包括：第一衬底，第一衬底具有第一表面；在第一衬底的第一表面处或附近的第一光波导；第二衬底，第二衬底具有第二表面。第二衬底在界面处耦合到第一衬底。装置还包括光子集成电路(PIC)，具有在第二表面处或附近的一部分。PIC跨界面与第一光波导对准并且光耦合到第一光波导。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 垂直 解聚 光子 设备 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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