[发明专利]基于二维材料InSe/GaAs异质结的三维沟槽硅电极探测器在审

专利信息
申请号: 202210320603.4 申请日: 2022-03-29
公开(公告)号: CN114744062A 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 刘美萍;唐勇;刘文富;白柳杨 申请(专利权)人: 黄淮学院
主分类号: H01L31/0328 分类号: H01L31/0328;H01L31/0352;H01L31/109
代理公司: 苏州拓云知识产权代理事务所(普通合伙) 32344 代理人: 高泽民
地址: 463100 *** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开了一种基于二维材料InSe/GaAs异质结的三维沟槽硅电极探测器,本发明属于光电探测器技术领域。本发明的电极探测器,包括隔离硅体,所述隔离硅体采用二维材料InSe/GaAs异质结材料,所述二维材料InSe/GaAs异质结为直接带隙的II型异质结构,所述II型异质结构包括Ga端接触的异质结构和As端接触的异质结构;所述Ga端接触的异质结构的带隙为0.62‑1.32eV,所述As端接触的异质结构的带隙为1.84‑1.95eV。二维材料InSe/GaAs异质结相对比单层InSe载流子迁移率大大提升,异质结构扩宽了光吸收范围,增加了对可见光和红外线区域的吸收增强。
搜索关键词: 基于 二维 材料 inse gaas 异质结 三维 沟槽 电极 探测器
【主权项】:
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