[发明专利]气体室及其调节方法在审
| 申请号： | 202111633147.0 | 申请日： | 2021-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN114486744A | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 沈婷婷;沈兴超;於有利;付亮;蔡敏;谢耀 | 申请（专利权）人： | 聚光科技（杭州）股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/03 | 分类号： | G01N21/03 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310052 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了气体室及其调节方法，所述气体室包括怀特腔，所述怀特腔具有第一光学窗口、第二光学窗口、气体进口和气体出口，第一反射镜和第二反射镜设置在怀特腔内的一侧，第三反射镜设置在怀特腔内的另一侧；光源发出的检测光在第一光反射器件上的反射光穿过第一光学窗口进入怀特腔内，在第一反射镜、第三反射镜和第二反射镜上来回反射，之后穿过第二光学窗口，被第二光反射器件反射到探测器；第一光反射器件设置在第一导轨上，所述第二光反射器件设置在第二导轨上；驱动单元用于驱动所述第一光反射器件在第一导轨上平移，以及驱动所述第二光反射器件在第二导轨上平移，使得第一光反射器件和第二光反射器件平移方向相反，且平移距离相同。本发明具有光程调节准确等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 及其 调节 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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