[发明专利]调整方法、测量方法、投射系统、信息处理装置和记录介质有效

专利信息
申请号: 202111462972.9 申请日: 2021-12-02
公开(公告)号: CN114615483B 公开(公告)日: 2023-08-01
发明(设计)人: 山内泰介 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H04N13/10 分类号: H04N13/10;H04N13/25;H04N13/30
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李庆泽;邓毅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 调整方法、测量方法、投射系统、信息处理装置和记录介质。避免产生被投射了投射图像的被投射物的拍摄图像中的高光溢出或暗部缺失。信息处理装置具有确定部、检测部、估计部和调整部。确定部根据被投射了图案图像的被投射物的拍摄图像和图案图像,确定投影仪坐标系与摄像头坐标系的对应关系。检测部检测被投射了亮度均匀的单色图像的被投射物的拍摄图像中的第1区域和第2区域的亮度。估计部针对在单色图像中与第1区域对应起来的第3区域和与第2区域对应起来的第4区域,估计不使拍摄图像中的亮度饱和的亮度的范围。调整部根据估计部的估计结果,调整在投射图像中与第3区域对应的第5区域和与第4区域对应的第6区域的亮度。
搜索关键词: 调整 方法 测量方法 投射 系统 信息处理 装置 记录 介质
【主权项】:
暂无信息
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