[发明专利]一种叠层TCO薄膜、硅异质结电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111432647.8 申请日: 2021-11-29
公开(公告)号: CN114242805A 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 宫元波;赵晓霞;田宏波;王伟;王雪松;王彩霞;宗军;范霁红;孙金华 申请(专利权)人: 国家电投集团科学技术研究院有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/0747;H01L31/20
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 孙诗惠
地址: 102209 北京市昌平区未来科技城国*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种叠层TCO薄膜,依次包括第一TCO薄膜层、第二TCO薄膜层和第三TCO薄膜层,其中,所述第一TCO薄膜层和第三TCO薄膜层为ITO薄膜层,第二TCO薄膜层为IWO或ICO薄膜层。本发明的叠层TCO薄膜,采用三叠层膜结构,近非晶硅与近金属电极端的TCO薄膜利用了不同ITO薄膜与非晶硅及金属电极能够形成良好接触的优势,中间主体TCO层利用了IWO或ICO薄膜低载流子浓度高载流子迁移率的优势,将该叠层TCO薄膜作为硅异质结电池的透明导电层,有利于降低电池电学和光学损失,提高电池短路电流密度和填充因子。
搜索关键词: 一种 tco 薄膜 硅异质结 电池 及其 制备 方法
【主权项】:
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