[发明专利]一种耐腐蚀的等离子体化学反应装置有效
| 申请号： | 202111340685.0 | 申请日： | 2021-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN114192093B | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 聂林;龚少博;王华杰;赵伟;柯锐;侯和爽;刘灏;许敏;王占辉 | 申请（专利权）人： | 核工业西南物理研究院 |
| 主分类号： | B01J19/12 | 分类号： | B01J19/12;B01J19/02 |
| 代理公司： | 核工业专利中心 11007 | 代理人： | 王婷 |
| 地址： | 610041 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明属于等离子体化学反应技术领域，具体涉及一种耐腐蚀的等离子体化学反应装置，采用微波直接激发等离子促进化学反应，可适用于氟气、四氟化碳等电离后具有强氧化性和腐蚀性的气他，且本方案无需高电压，具有较高的安全性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 腐蚀 等离子体 化学反应 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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