[发明专利]一种永磁铁磁场调控方法及其磁流变抛光装置有效
| 申请号： | 202111245330.3 | 申请日： | 2021-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN114083424B | 公开（公告）日： | 2023-10-27 |
| 发明（设计）人： | 高春甫;郑岚鹏;贺新升;杨志强;傅晴;蒋佳杰;周崇秋 | 申请（专利权）人： | 浙江师范大学 |
| 主分类号： | B24B31/10 | 分类号： | B24B31/10;B24B31/12;B24B1/00;B24B41/06;B24B47/12;B24B41/00;H01F7/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 321004 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种永磁铁磁场调控方法及其磁流变抛光装置，由于圆柱形永磁铁具有“边缘效应”，磁流变抛光时会导致工件材料去除率不一致。针对此问题，本发明提出了一种永磁铁磁场调控方法对条形永磁铁磁荷面进行切割，形成一号条形永磁铁与二号条形永磁铁，并将一号条形永磁铁与二号条形永磁铁磁极方向的方式排列，构建由旋转中心向边缘处磁场强度按一定规律递减的抛光磁场，实现工件材料的均匀去除。为消除定点抛光时工件表面会产生定向纹理问题，给工件添加自身回转运动。为提高抛光效率，抛光时多个工件同时进行加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 永磁 磁场 调控 方法 及其 流变 抛光 装置 | ||
【主权项】：
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