[发明专利]基于等高线的单层轮廓图案的激光填充方法及装置有效

专利信息
申请号: 202111166070.0 申请日: 2021-09-30
公开(公告)号: CN113793352B 公开(公告)日: 2023-04-28
发明(设计)人: 周鋆;王敏;杨昊;张伟康 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科技大学
主分类号: G06T7/12 分类号: G06T7/12;G06T7/13;G06T7/62;G06T11/40;G06T17/00
代理公司: 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 代理人: 徐志宏
地址: 410073 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 本申请涉及一种基于等高线的单层轮廓图案的激光填充方法、装置、计算机设备和存储介质。所述方法包括:根据等距偏置算法,对待填充图案进行外轮廓内偏移操作,得到轮廓偏置图案;对轮廓偏置图案进行网格法环境建模,得到预处理后的网格图案;针对网格图案,构建最短路径问题集合;利用A*算法对最短路径问题集合进行求解,得到网格图案的最优填充路径。采用本方法能够提高图案的激光填充效率。
搜索关键词: 基于 等高线 单层 轮廓 图案 激光 填充 方法 装置
【主权项】:
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