[发明专利]含立方烷基的光敏成膜树脂、光刻胶组合物及其制备方法有效
| 申请号： | 202110985667.1 | 申请日： | 2021-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN113736007B | 公开（公告）日： | 2022-09-16 |
| 发明（设计）人： | 聂俊;李三保;朱晓群;孙芳 | 申请（专利权）人： | 江苏集萃光敏电子材料研究所有限公司 |
| 主分类号： | C08F220/18 | 分类号： | C08F220/18;C08F220/28;G03F7/004 |
| 代理公司： | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 | 代理人： | 张红艳 |
| 地址： | 214200 江苏省无锡市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种含立方烷基的光敏成膜树脂、光刻胶组合物及其制备方法，所述光敏成膜树脂按照质量份数计，由30～70份的立方烷基不饱和酯单体与30～70份的(甲基)丙烯酸酯单体共聚而成；所述立方烷基不饱和酯单体选自立方烷基丁烯酸酯单体和含杂环的立方烷基丁烯酸酯单体中的至少一种。本发明提供的含立方烷基的光敏成膜树脂，通过引入立方烷基不饱和酯单体与(甲基)丙烯酸酯单体共聚，提高了光敏成膜树脂中碳的致密度，从而有助于提高光敏成膜树脂的刚度、感光度以及耐刻蚀性，进而能够提供一种具有优异耐刻蚀性能、优异耐热性能的光刻胶用光敏成膜树脂。 | ||
| 搜索关键词： | 立方 烷基 光敏 树脂 光刻 组合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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