[发明专利]蚀刻液及其应用有效
| 申请号： | 202110483901.0 | 申请日： | 2021-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN113265660B | 公开（公告）日： | 2023-03-17 |
| 发明（设计）人： | 李治文;袁明军;胡秋雨;段林侃 | 申请（专利权）人： | 光华科学技术研究院（广东）有限公司;广东光华科技股份有限公司;广东东硕科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/28 | 分类号： | C23F1/28;C23F1/30 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 黎金娣 |
| 地址： | 511400 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种蚀刻液及其应用，该蚀刻液包括水、氯化物、无机酸、有机酸和氧化剂；氯化物选自氯化钠、氯化钾、氯化铜、氯化铵和氯化氢中的至少一种；无机酸选自硝酸、硫酸、磷酸和高氯酸中的至少一种；有机酸选自亚氨基二乙酸、甲酸、乙酸、丁酸、柠檬酸、异柠檬酸、草酸和丙二酸中的至少一种；氧化剂选自双氧水、过硫酸钠、过硫酸铵、过硫酸钾、硝酸铈铵、硝酸铈钠、硝酸铈钾、次氯酸钠和次氯酸钾中的至少一种；氯化物：无机酸：氧化剂的摩尔比为(55～70)：(30～50)：1。该蚀刻液能快速蚀刻镍、铬或镍铬合金，对铜的蚀刻作用小，满足目前柔性印制电路板和集成电路中制作精细线路的制程要求，且安全可靠。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 及其 应用 | ||
【主权项】：
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