[发明专利]一种近场稀疏阵设计方法有效

专利信息
申请号: 202110440766.1 申请日: 2021-04-23
公开(公告)号: CN113158568B 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 甘露;潘延;徐政五;廖红舒 申请(专利权)人: 电子科技大学;宜宾电子科技大学研究院
主分类号: G06F30/27 分类号: G06F30/27;G06N3/12;G06F111/06
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 孙一峰
地址: 611731 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于阵列天线设计技术领域,涉及一种近场稀疏阵设计方法。本发明首先根据给定初始均布阵列,并计算好能够实现近场聚焦波束的权向量,将其作为稀疏阵列的基础。在计算中过程中先采用传统遗传算法进行阵列设计,当遗传算法进行到一定次数后,在每轮遗传算法结束前进行概率学习算法迭代,若在一定学习次数内产生适应度更高的解,则将当前遗传算法中最优解替换为该解并保留。本发明相对于传统遗传算法和贪婪搜索算法,在时间复杂度和设计性能上做到较好的兼顾,且具有一定的灵活性。本发明对于实际工程中的小型阵列能够进行高性能的全局搜索,找到更优的可行解。
搜索关键词: 一种 近场 稀疏 设计 方法
【主权项】:
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