[发明专利]一种固定底座、LPCVD炉管及LPCVD设备在审
申请号: | 202110343044.4 | 申请日: | 2021-03-30 |
公开(公告)号: | CN113088935A | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | 周进;敖海林 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 周耀君 |
地址: | 201315*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种固定底座、LPCVD炉管及LPCVD设备,所述固定底座包括基座以及设于所述基座上的多个压紧件和多个支撑件,所述多个压紧件与所述多个支撑件一一对应设置;所述多个压紧件用于固定所述LPCVD炉管的外管体的底部的内侧壁,且沿所述基座的周向间隔设置;所述多个支撑件用于与所述外管体的底部的外侧壁相抵接,且沿所述基座的周向间隔设置。本发明提供的固定底座能够有效地使得所述外管体与所述固定底座为同心安装,保证所述外管体与所述固定底座之间的安装间隙均匀,且在对设备进行抽真空时,所述外管体也不会发生偏移现象,能够有效地避免所述外管体与所述固定底座之间发生碰撞而导致所述外管体碎裂的情况发生。 | ||
搜索关键词: | 一种 固定 底座 lpcvd 炉管 设备 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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