[发明专利]一种固定底座、LPCVD炉管及LPCVD设备在审

专利信息
申请号: 202110343044.4 申请日: 2021-03-30
公开(公告)号: CN113088935A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 周进;敖海林 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 周耀君
地址: 201315*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种固定底座、LPCVD炉管及LPCVD设备,所述固定底座包括基座以及设于所述基座上的多个压紧件和多个支撑件,所述多个压紧件与所述多个支撑件一一对应设置;所述多个压紧件用于固定所述LPCVD炉管的外管体的底部的内侧壁,且沿所述基座的周向间隔设置;所述多个支撑件用于与所述外管体的底部的外侧壁相抵接,且沿所述基座的周向间隔设置。本发明提供的固定底座能够有效地使得所述外管体与所述固定底座为同心安装,保证所述外管体与所述固定底座之间的安装间隙均匀,且在对设备进行抽真空时,所述外管体也不会发生偏移现象,能够有效地避免所述外管体与所述固定底座之间发生碰撞而导致所述外管体碎裂的情况发生。
搜索关键词: 一种 固定 底座 lpcvd 炉管 设备
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