[发明专利]一种固定底座、LPCVD炉管及LPCVD设备

说明书

本发明提供了一种固定底座、LPCVD炉管及LPCVD设备，所述固定底座包括基座以及设于所述基座上的多个压紧件和多个支撑件，所述多个压紧件与所述多个支撑件一一对应设置；所述多个压紧件用于固定所述LPCVD炉管的外管体的底部的内侧壁，且沿所述基座的周向间隔设置；所述多个支撑件用于与所述外管体的底部的外侧壁相抵接，且沿所述基座的周向间隔设置。本发明提供的固定底座能够有效地使得所述外管体与所述固定底座为同心安装，保证所述外管体与所述固定底座之间的安装间隙均匀，且在对设备进行抽真空时，所述外管体也不会发生偏移现象，能够有效地避免所述外管体与所述固定底座之间发生碰撞而导致所述外管体碎裂的情况发生。

技术领域

本发明涉及半导体设备技术领域，尤其涉及一种固定底座、LPCVD炉管及LPCVD设备。

背景技术

目前SPT ONO型号的LPCVD炉管设备作为瓶颈机台对压力要求极高，一旦出现压力问题则会导致设备长时间宕机，从而使得设备的产量骤减。而一般导致压力问题的主要原因是炉管相对于固定底座出现了位移；在抽真空时炉管与固定底座出现碰撞易导致炉管破裂引起设备宕机。根据事实统计，SPT ONO设备在一年内出现过四次炉管破裂的情况，其中包含ADONOS02新装机设备。

在炉管破裂后拆除炉管时，能够发现炉管与固定底座之间的间隙不均匀，其中一侧的间隙较小，从而导致石英材质的炉管与金属材质的固定底座相接触而产生应力导致炉管发生破裂；同时，能够查看到炉管在密封圈上压痕不均匀有偏移现象，这是由于炉管与固定底座安装不同心导致部分石英与金属接触导致炉管的碎裂，虽然能够在安装炉管时保证炉管与固定底座之间的安装间隙均匀，使得炉管与固定底座为同心安装，但在升降炉管或者是在抽真空的状态时，炉管会相对于固定底座发生位移，从而导致炉管与固定底座发生碰撞，当随着抽真空次数的增加，多次撞击将会导致炉管碎裂。

因此，有必要发明一种能够克服炉管与固定底座之间容易发生碰撞问题的固定底座。

发明内容

本发明的目的在于提供一种固定底座、LPCVD炉管及LPCVD设备，以解决现有技术中存在的固定底座即便在安装炉管时能够保证炉管与所述固定底座同心，但在升降炉管或者是在抽真空的状态时，所述炉管依旧会发生偏移现象，从而导致与炉管发生撞击的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种固定底座，用于安装LPCVD炉管的外管体，所述固定底座包括基座以及设于所述基座上的多个压紧件和多个支撑件，所述多个压紧件与所述多个支撑件一一对应设置；

所述多个压紧件用于固定所述LPCVD炉管的外管体的底部的内侧壁，且沿所述基座的周向间隔设置；

所述多个支撑件用于与所述外管体的底部的外侧壁相抵接，且沿所述基座的周向间隔设置。

可选的，所述外管体的底部的内侧壁上设有卡块，所述压紧件靠近所述外管体的一侧设有与所述卡块相配合的卡槽，所述压紧件与所述外管体的内侧壁之间设有间隙。

可选的，所述间隙为0.18mm。

可选的，所述支撑件的长度为9.45mm。

可选的，所述基座上还设有密封圈，所述密封圈位于所述多个压紧件和所述多个支撑件之间。

可选的，所述固定底座还包括设于所述基座上的抽气管道。

可选的，所述多个压紧件沿所述基座的周向等间隔设置，所述多个支撑件沿所述基座的周向等间隔设置。

本发明还提供一种LPCVD炉管，包括内管体、外管体和如上所述的固定底座，所述外管体套设于所述内管体的外围。

可选的，所述外管体采用石英或者SiC材料制成。

本发明还提供一种LPCVD设备，包括如上所述的LPCVD炉管。