[发明专利]一种固定底座、LPCVD炉管及LPCVD设备在审
| 申请号： | 202110343044.4 | 申请日： | 2021-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN113088935A | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 周进;敖海林 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 周耀君 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 固定 底座 lpcvd 炉管 设备 | ||
1.一种固定底座，用于安装LPCVD炉管的外管体，其特征在于，所述固定底座包括基座以及设于所述基座上的多个压紧件和多个支撑件，所述多个压紧件与所述多个支撑件一一对应设置；
所述多个压紧件用于固定所述LPCVD炉管的外管体的底部的内侧壁，且沿所述基座的周向间隔设置；
所述多个支撑件用于与所述外管体的底部的外侧壁相抵接，且沿所述基座的周向间隔设置。
2.根据权利要求1所述的固定底座，其特征在于，所述外管体的底部的内侧壁上设有卡块，所述压紧件靠近所述外管体的一侧设有与所述卡块相配合的卡槽，所述压紧件与所述外管体的内侧壁之间设有间隙。
3.根据权利要求2所述的固定底座，其特征在于，所述间隙为0.18mm。
4.根据权利要求1所述的固定底座，其特征在于，所述支撑件的长度为9.45mm。
5.根据权利要求1所述的固定底座，其特征在于，所述基座上还设有密封圈，所述密封圈位于所述多个压紧件和所述多个支撑件之间。
6.根据权利要求1所述的固定底座，其特征在于，所述固定底座还包括设于所述基座上的抽气管道。
7.根据权利要求1所述的固定底座，其特征在于，所述多个压紧件沿所述基座的周向等间隔设置，所述多个支撑件沿所述基座的周向等间隔设置。
8.一种LPCVD炉管，其特征在于，包括内管体、外管体和如权利要求1至7中任一项所述的固定底座，所述外管体套设于所述内管体的外围。
9.根据权利要求8所述的LPCVD炉管，其特征在于，所述外管体采用石英或者SiC材料制成。
10.一种LPCVD设备，其特征在于，包括如权利要求9所述的LPCVD炉管。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
