[发明专利]监控特殊形貌颗粒缺陷的方法在审
| 申请号： | 202110343035.5 | 申请日： | 2021-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN113049607A | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 张兴棣;王泽逸;王恺 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;H01L21/66 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 周耀君 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种监控特殊形貌颗粒缺陷的方法，包括以下步骤：对晶圆的表面进行缺陷扫描，筛选出颗粒缺陷；获取所述颗粒缺陷的灰阶图像，并根据所述灰阶图谱进行灰阶分析，当所述颗粒缺陷内部的灰阶差值大于第一设定阈值时，则认定所述颗粒缺陷为具有特殊形貌的颗粒缺陷。由于特殊形貌的颗粒缺陷通常呈疏松团聚状，而普通颗粒缺陷较为致密，虽然特殊形貌的颗粒缺陷和致密颗粒缺陷和正常晶圆的灰阶数据相比都有较大的灰阶差值，但是在颗粒内部的灰阶表现却有所不同。故通过对颗粒缺陷内部的灰阶差值进行分析，可进一步筛选出具有特殊形貌的颗粒缺陷，以便于及时处理，防止特殊形貌的缺陷在制造工艺中被打散而造成大范围芯片良率降低的情况发生。 | ||
| 搜索关键词： | 监控 特殊 形貌 颗粒 缺陷 方法 | ||
【主权项】：
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