[发明专利]测量茎秆表皮细胞氢离子流评价大豆耐荫抗倒性的方法有效
| 申请号： | 202110310079.8 | 申请日： | 2021-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN113030220B | 公开（公告）日： | 2023-04-14 |
| 发明（设计）人： | 刘卫国;张熠;王思宇;卢俊吉;徐香瑶;王莉;高阳;程彬;许梅;张涵;郑乃文;郭雨凯;刘春燕;王文艳 | 申请（专利权）人： | 四川农业大学 |
| 主分类号： | G01N27/36 | 分类号： | G01N27/36;G01N27/333 |
| 代理公司： | 北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙) 11589 | 代理人： | 李康 |
| 地址： | 610000 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明适用于植物耐荫抗倒性评价的技术领域，提供了一种测量茎秆表皮细胞氢离子流评价大豆耐荫抗倒性的方法。该方法包括：在大豆原本生长的环境下，打磨大豆茎秆表皮，形成打磨部位；采用平衡缓冲液使所述打磨部位的表皮细胞离子交换达到平衡；测量所述打磨部位的表皮细胞氢离子流；根据氢离子流测量结果进行耐荫抗倒性分析评价。本发明在植物原本生长的环境下，通过非损伤微测技术测量正常光照和荫蔽环境下大豆茎秆表皮氢离子流动情况，从而判断不同大豆品种耐荫抗倒性的相对强弱，本发明提供的方法简单、快速、准确性高，可在室内简单、有效地对大豆耐荫抗倒性进行评判。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 表皮 细胞 氢离子 评价 大豆 耐荫抗倒性 方法 | ||
【主权项】：
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