[发明专利]一种带有优化沟槽的化学机械抛光垫及其应用有效
| 申请号： | 202110299881.1 | 申请日： | 2021-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN112959212B | 公开（公告）日： | 2023-03-03 |
| 发明（设计）人： | 谢毓;王凯;田骐源 | 申请（专利权）人： | 万华化学集团电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 264006 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种带有优化沟槽的化学机械抛光垫及其应用，所述抛光垫包括抛光层，其具有环形抛光轨迹区、位于抛光轨迹区内的圆形中间区及抛光轨迹区外部的环形外缘区；以及位于抛光层表面的沟槽，包括圆周向沟槽及径向沟槽，所述径向沟槽呈放射状由最靠近抛光垫圆心方向的沟槽处沿半径方向向外延伸，至抛光轨迹区与环形外缘区交界处的沟槽处，由一条沟槽发散为至少两条放射状沟槽。本发明的沟槽能够在最大量存储抛光液的情况下不降低抛光碎屑的排出，从而能得到稳定的抛光速率，提高产品良率，延长抛光垫使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 带有 优化 沟槽 化学 机械抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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