[发明专利]一种低损伤性光学晶体片抛光用无蜡垫及其生产工艺有效

专利信息
申请号: 202110268629.4 申请日: 2021-03-12
公开(公告)号: CN113021200B 公开(公告)日: 2022-10-14
发明(设计)人: 李加海;梁则兵;李元祥 申请(专利权)人: 安徽禾臣新材料有限公司
主分类号: B24D13/00 分类号: B24D13/00;B24D18/00;B24D3/28;C08L63/00;C08K9/04;C08K3/04
代理公司: 合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙) 34160 代理人: 毛世燕
地址: 243000 安徽省马鞍山市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种低损伤性光学晶体片抛光用无蜡垫,包括如下重量份的原料:环氧树脂预聚物30‑40份、改性固化剂20‑30份、磨料2‑4份;本发明还公开了该无蜡垫的生产工艺,将环氧树脂预聚物加入反应釜中,加入磨料、改性固化剂在70‑110℃搅拌3‑6小时,然后注模固化成型,制得抛光用无蜡垫。本发明中对环氧树脂预聚物和固化剂进行改性,对于环氧树脂预聚物,引入萘等多苯环片段,提高耐热性能,对于环氧树脂的固化剂,巧妙地将韧性材料石墨烯引入环氧树脂基材中,使其均匀分散在基材中,同时也增加了环氧树脂的拉伸强度、弯曲强度以及冲击强度,改善环氧树脂的韧性差的缺点。
搜索关键词: 一种 损伤 光学 晶体 抛光 用无蜡垫 及其 生产工艺
【主权项】:
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