[发明专利]NOR型存储器件及其制造方法及包括存储器件的电子设备有效

专利信息
申请号: 202110253001.7 申请日: 2021-03-08
公开(公告)号: CN112909012B 公开(公告)日: 2023-09-22
发明(设计)人: 朱慧珑 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H10B43/10 分类号: H10B43/10;H10B43/30;H10B43/20;H10B51/10;H10B51/30;H10B51/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 倪斌
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 公开了一种NOR型存储器件及其制造方法及包括该NOR型存储器件的电子设备。根据实施例,该NOR型存储器件可以包括:在衬底上竖直延伸的栅堆叠,栅堆叠包括栅导体层和存储功能层;围绕栅堆叠的外周的有源区,有源区包括第一和第二源/漏区以及它们之间的第一沟道区以及第三和第四源/漏区以及它们之间的第二沟道区,其中,存储功能层介于栅导体层与有源区之间;分别从第一至第四源/漏区横向延伸的第一、第二、第三和第四互连层;以及相对于衬底竖直延伸以穿过第一至第四互连层的源极线接触部。源极线接触部与第一互连层和第二互连层之一电连接,且与第三互连层和第四互连层之一电连接。
搜索关键词: nor 存储 器件 及其 制造 方法 包括 电子设备
【主权项】:
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