[发明专利]一种基于光栅刻线非均匀模型的圆光栅编码器信号生成算法有效
| 申请号： | 202110233664.2 | 申请日： | 2021-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN113091651B | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | 冯仁剑;闫家璇;吴银锋;于宁 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | G01B11/26 | 分类号： | G01B11/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种基于光栅刻线非均匀模型的圆光栅编码器信号生成算法，涉及信号源发生技术领域，特别是考虑光栅刻线非均匀误差的圆光栅编码器的信号生成算法。本发明针对现有的圆光栅编码器信号发生器存在的输出信号为理想信号，无法模拟实际工程应用中含有刻划误差的圆光栅编码器的局限性，提出了一种基于光栅刻线非均匀模型的圆光栅编码器信号生成算法。该算法的技术要点为：通过建立光栅刻线非均匀模型，计算由光栅刻线非均匀引起的输出信号的相位变化，生成圆光栅编码器的输出信号。本发明可应用于圆光栅编码器信号处理电路与算法的有效性测试领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 光栅 刻线非 均匀 模型 圆光 编码器 信号 生成 算法 | ||
【主权项】：
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