[发明专利]带有表面凹陷的气膜冷却结构及涡轮叶片、涡轮机有效

专利信息
申请号: 202110229847.7 申请日: 2021-03-02
公开(公告)号: CN112780356B 公开(公告)日: 2022-07-26
发明(设计)人: 饶宇;刘宇阳 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: F01D5/18 分类号: F01D5/18
代理公司: 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人: 胡晶
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种带有表面凹陷的气膜冷却结构,包括:凹陷结构和气膜孔,气膜孔与凹陷结构平滑连接;气流通过气膜孔蔓延到凹陷结构形成气膜,气膜扩散至涡轮叶片表面;凹陷结构包括第一凹陷和第二凹陷,第一凹陷的内壁面上设置有第二凹陷,第二凹陷的内壁上设置有气膜孔;气膜孔的气膜孔口上设置有倒圆结构或者斜切结构;和/或,第一凹陷的后部边缘上设置有倒圆结构或者斜切结构。本发明还提供了一种涡轮叶片,涡轮叶片的壁面上设置有阵列排列的气膜冷却结构;凹陷抑制了下游壁面上气膜流动形成的反向涡对;气膜孔和双凹陷结构使得气膜孔流出的气流紧贴壁面。本发明比常规的斜孔,具有更高的气膜冷却效率、加工效率和更低的加工成本。
搜索关键词: 带有 表面 凹陷 冷却 结构 涡轮 叶片 涡轮机
【主权项】:
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