[发明专利]产生布局设计的方法在审
| 申请号： | 202110126234.0 | 申请日： | 2021-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN113283206A | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 顾钧尧;陈文豪;余明道 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;H01L27/02 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种产生集成电路的布局设计的方法。方法包括形成第一区域，此第一区域具有在第一方向上延伸的至少两个第一类型单元行。第一类型单元行的每一者具有沿着垂直于第一方向的第二方向量测的第一行高度。方法亦包括形成第二区域，此第二区域具有在第一方向上延伸的至少两个第二类型单元行。第二类型单元行的每一者具有沿着第二方向量测的第二行高度。第一区域邻接第二区域，并且第一类型单元行的第一行高度与第二类型单元行的第二行高度不同。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 布局 设计 方法 | ||
【主权项】：
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