[发明专利]测量硅抛光片表面铁含量的方法在审
| 申请号： | 202110068574.2 | 申请日： | 2021-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN112816424A | 公开（公告）日： | 2021-05-18 |
| 发明（设计）人： | 郭体强 | 申请（专利权）人： | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/27 | 分类号： | G01N21/27 |
| 代理公司： | 杭州融方专利代理事务所(普通合伙) 33266 | 代理人： | 沈相权 |
| 地址： | 311201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种测量硅抛光片表面铁含量的方法，所属硅抛光片金属含量检测技术领域，包括如下操作步骤：第一步：使用SPV法测出硅抛光片体铁含量，记为B1。第二步：把硅抛光片放入退火炉在高纯氩气保护下，在高温下加热10～20分钟，使硅抛光片表面的铁驱入硅片体内。第三步：再次使用SPV法测出硅抛光片体铁含量，记为B2。第四步：利用SPV法测量高温前后两次体铁含量算式算出硅片表面铁含量，硅片表面铁含量=0.5×（B2‑B1）×T。具有方法简单、操作方便、节能环保和安全稳定性高的优点。解决了危险化学品使用的问题。避免了化学液的环保处理过程。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 抛光 表面 含量 方法 | ||
【主权项】：
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