[发明专利]多排双能线阵探测器扫描方法、系统、介质及装置在审

专利信息
申请号: 202110018152.4 申请日: 2021-01-07
公开(公告)号: CN112858167A 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 王锋;方志强;黄翌敏;马扬喜;吴铭华 申请(专利权)人: 上海奕瑞光电子科技股份有限公司
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N23/04;G01T1/202
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 邬嫡波
地址: 201201 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种多排双能线阵探测器扫描方法、系统、介质及装置,所述方法包括以下步骤:使用多个单晶硅多排双能线阵探测器采集高能图像数据和低能图像数据;采用基于FPGA电路的DTDI累加工作流程对高能图像数据和低能图像数据处理得到高能探测器输出信号强度和低能探测器输出信号强度;基于高能探测器输出信号强度和低能探测器输出信号强度采用映射公式计算每个像素点的透明度,将透明度转换为色相、饱和度和亮度;基于转换公式将每个像素点的色相、饱和度和亮度融合生成RGB图像。本发明的一种多排线阵探测器扫描方法、系统、介质及装置,用于在低X射线剂量条件下,实现高空间分辨率。
搜索关键词: 多排双能线阵 探测器 扫描 方法 系统 介质 装置
【主权项】:
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