[发明专利]用于直接还原工艺的密封气体优化系统和方法在审
| 申请号： | 202080102311.2 | 申请日： | 2020-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN115916355A | 公开（公告）日： | 2023-04-04 |
| 发明（设计）人： | 法伊察尔·芬努切;大卫·奥斯瓦尔德 | 申请（专利权）人： | 米德雷克斯技术公司 |
| 主分类号： | A62D3/36 | 分类号： | A62D3/36;B01J10/00;C02F1/66;C21B13/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴胜周;柳春琦 |
| 地址： | 美国北卡*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于操作在直接还原工艺中利用的密封气体压缩机的方法和系统，其包括：监测在密封气体压缩机中使用的水流的pH水平，其中所述水流的pH水平受到与所述水流接触的重整炉烟道气流的影响，其中监测步骤在所述密封气体压缩机的上游和所述压缩机的下游中的一个或多个处进行；以及基于来自所述监测步骤的反馈对所述水流的pH水平进行调节以将所述水流的pH水平保持在预定范围内。所述方法包括将所述密封气体压缩机上游的水流的pH水平保持在7.5至10的范围内并且将所述密封气体压缩机下游的水流的pH水平保持在7.8至9.5的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 直接 还原 工艺 密封 气体 优化 系统 方法 | ||
【主权项】：
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