[发明专利]实施基于仿真的物理设计规则以优化电路布局在审

专利信息
申请号: 202080029757.7 申请日: 2020-04-21
公开(公告)号: CN113711226A 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 迈克尔·R·科比;大卫·科斯图西亚克;克里斯蒂安·拉森 申请(专利权)人: 思睿逻辑国际半导体有限公司
主分类号: G06F30/398 分类号: G06F30/398;G06F30/367;G06F30/392;G06F119/10
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 谭营营;王朝辉
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种用于在电路布局中实施设计规则的方法,可以包括向电路仿真器提供用于集成电路的电路原理图,其中电路布局源自所述电路原理图,使用电路仿真器来仿真电路原理图并生成用于集成电路的仿真的电气参数;并且在基于仿真的电气参数生成电路布局时,使用仿真的电气参数来实施物理设计规则。
搜索关键词: 实施 基于 仿真 物理 设计 规则 优化 电路 布局
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于思睿逻辑国际半导体有限公司,未经思睿逻辑国际半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202080029757.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 用于提取特征向量以辨识图案物体的特征提取方法-202180085814.8
  • 李丹颖;刘梦;伍健一;孙任成;吴聪;许德安 - ASML荷兰有限公司
  • 2021-11-24 - 2023-08-25 - G06F30/398
  • 披露了用于辨识图案的改善型特征提取设备和方法。一种用于辨识图案的改善型特征提取方法包括:获得表示图案实例的数据;将所述图案实例划分成多个分区;确定所述多个分区中的分区的代表性特性;使用特征向量来产生所述图案实例的表示,其中,所述特征向量包括对应于所述代表性特性的元素,其中,所述代表性特性指示所述分区的一个或更多个特征的空间分布。所述方法还包括基于所述特征向量对图案实例进行分类和基于所述特征向量对图案实例进行选择中的至少一项。
  • 电气图管理装置、电气图管理系统以及电气图管理方法-202080103567.5
  • 小田根昌弘 - 三菱电机楼宇解决方案株式会社
  • 2020-09-01 - 2023-04-21 - G06F30/398
  • 电气图管理装置具备:取得部,其取得电气图的图像作为电气图数据;存储部,其存储区域指定表,与设计电气图的多个设计者信息分别对应地设置、且用于提取电气图数据的规定区域的区域指定数据分别存储于该区域指定表;提取部,其参照区域指定表,按照设计电气图的设计者信息来提取电气图数据的规定区域的数据;以及列表生成部,其生成列表信息,该列表信息是将由提取部提取出的电气图数据的规定区域中包含的触点信息进行列表化而得到的。
  • 电路设计的候选热点位置的基于机器学习的淘汰选择-202080102976.3
  • 马远升;洪乐 - 西门子工业软件有限公司
  • 2020-07-08 - 2023-04-04 - G06F30/398
  • 一种方法(700)可以包括访问(702)电路设计的所制造的电路上的热点位置的输入数据集合(210)的步骤。该热点位置可以通过高精度成像过程从由低精度成像过程确定的电路设计的候选位置的集合中确认。该方法(700)还可以包括:将热点位置与电路设计的布局数据(240)相关联(704),从布局数据(240)的光学邻近校正(OPC)片段中提取(706)热点位置的片段特征向量(250、410、510),处理(708)片段特征向量(250、410、510),提供(710)经处理的片段特征向量作为用于训练机器学习模型(610)的训练集。以及应用(712)机器学习模型(610)以对由低精度成像过程确定的候选位置的不同集合进行淘汰选择。
  • 按结构校正的填充单元插入-202080100370.6
  • F·福阿德 - 西门子工业软件有限公司
  • 2020-04-30 - 2022-12-23 - G06F30/398
  • 本申请公开了一种实施良率提升工具的计算系统,其从用于集成电路的物理布局设计中提取单元的特性,确定物理布局设计中的空区域的位置,将用于制造集成电路的电气设计规则应用于所提取的特性,以便识别物理布局设计中将违反电气设计规则的单元。计算系统可至少部分基于抵接空区域的单元的所提取特性和电气设计规则来选择用于空区域的填充单元,并且将所选择的填充单元插入到物理设计布局的空区域中。计算系统可以执行设计规则检查操作,该设计规则检查操作将电气设计规则应用于已经插入有所选择的填充单元的物理设计布局。
  • PCB金属平衡-202180023494.3
  • 巴尔特·尤尔·威廉明娜·范登博斯基;罗布雷希特·洛德·弗洛朗·贝利斯 - 埃勒西卡公司
  • 2021-03-25 - 2022-11-08 - G06F30/398
  • 示例实施方式描述了一种用于对PCB基板上的金属的电化学沉积进行平衡的计算机实现的方法;该方法包括:i)获得PCB基板上的金属的布局(100),该布局包括具有电路布局(103)的至少一个有效区域(103、101)和能用于进行平衡的平衡区域(102);ii)将基板区域划分为多个有限元素(161);iii)根据布局(100)来对相应的有限元素确定(110)有效金属分率(150);iv)基于围绕(183)平衡区域中的相应的有限元素的至少一个有效区域中的有限元素中的有效金属分率,来确定(170)覆盖相应的有限元素的金属平衡分率(182)。
  • 利用CAD数据与发射显微镜图像相结合的发射位点之间的相关性-202080091321.0
  • A·B·奥比莱;R·S·卡莫吉 - 美商新思科技有限公司
  • 2020-12-31 - 2022-08-19 - G06F30/398
  • 一种方法包括捕获集成电路(IC)的光子发射显微镜(PEM)图像,以及标识PEM图像中的发射位点,其中发射位点与泄漏电流相关联。使用计算机辅助设计(CAD)数据中的布局数据和/或网表数据查找连接多个发射位点的一组公共网络。根据布局数据和/或网表数据从该组公共网络中标识连接阈值数目的发射位点的关键网络。由处理器将关键网络交叉映射到CAD数据中的网表数据。根据网表数据标识特定器件,该具有被连接到关键网络的输出引脚。由处理器将根据网表数据标识的特定器件交叉映射到布局数据,其中关键网络连接已标识发射位点处的至少两个器件,包括特定器件。
  • 基于网络的晶片检查-202080080388.4
  • A·B·奥比莱;R·R·萨哈尼 - 美商新思科技有限公司
  • 2020-12-17 - 2022-07-08 - G06F30/398
  • 可以通过合并多个裸片上包括集成电路(IC)副本的位置处的缺陷来创建缺陷图。可以确定与缺陷图中的缺陷重叠的布局形状或网络。接下来,可以确定布局形状或网络之间的连接性。然后,可以基于布局形状或网络之间的连接性将缺陷分组为缺陷组,其中每个缺陷组包括与彼此电连接的布局形状或网络重叠的缺陷。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top