[实用新型]一种用于集成电路的工艺腔室中气体分配装置有效
申请号: | 202022203030.6 | 申请日: | 2020-09-30 |
公开(公告)号: | CN212257346U | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 陆桥宏 | 申请(专利权)人: | 无锡展硕科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01J37/305;H01L21/67 |
代理公司: | 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 | 代理人: | 杨立秋 |
地址: | 214000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及集成电路刻蚀中气体分配技术领域,具体涉及一种用于集成电路的工艺腔室中气体分配装置,包括分配座和盖板,分配座的顶部开设有内腔,分配座的底壁轴心周围均匀开设有喷淋孔;分配座的顶壁内侧开设有第一密封槽,且第一密封槽内嵌设有第一密封圈;分配座的顶部可拆卸连接有盖板,盖板的轴心处开设有进气孔,盖板的底部密封焊接有分配板,分配板的底部与分配座的内腔顶部相密封抵接;分配板包括隔板、环形板、分配孔、环形凸块和第二密封槽,环形板的内壁中部密封焊接有隔板,解决了现有技术中使用的气体分配装置大多一方面存在结构复杂、装配繁琐的缺陷,另一方面气体分布均匀效果差,从而影响刻蚀加工的良品率的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 集成电路 工艺 腔室中 气体 分配 装置 | ||
【主权项】:
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