[实用新型]一种多反应室CVD炉

摘要

本实用新型涉及一种多反应室CVD炉，属于化学气相沉积技术领域。CVD炉包括套筒A、套筒B、产品盘、散气盘、隔板、石墨进气管和传动装置，其中，套筒A底部密封，套筒A顶部设置散气盘，套筒A中间位置设置隔板，隔板上方为上反应室，隔板下方为下反应室，隔板上方和套筒A底部上方分别设置套筒B，套筒B紧贴套筒A，产品盘放置于套筒B上方，石墨进气管上端贯穿套筒A、隔板和产品盘的中心位置，下端设置于套筒A外侧，石墨进气管上设置出气孔，石墨进气管下端设置不锈钢管，不锈钢管通过轴承密封连接进气管道，石墨进气管下端连接传动装置。本实用新型通过增加反应腔室数量和石墨进气管的旋转功能，提高产品产出率及气体利用率，降低生产成本。