[实用新型]助熔剂法生长均匀的氮化物单晶的系统有效
| 申请号： | 202022055337.6 | 申请日： | 2020-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN212713847U | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 司志伟;刘宗亮;徐科 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号： | C30B29/40 | 分类号： | C30B29/40;C30B9/10 |
| 代理公司： | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人： | 王锋 |
| 地址： | 215123 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种助熔剂法生长均匀的氮化物单晶的系统。所述系统包括：单晶生长单元、原料循环单元、搅拌单元和氮气供给单元；所述单晶生长单元包括可供反应生长氮化物单晶的反应腔室，所述原料循环单元包括用以容置生长氮化物单晶所需原料的循环腔室，所述反应腔室与所述循环腔室相互连通，且所述原料能够在所述反应腔室与循环腔室之间循环流动；所述搅拌单元至少用以对所述循环腔室和/或反应腔室内的原料进行搅拌；所述氮气供给单元至少用以向所述循环腔室和/或反应腔室内提供氮气。本实用新型利用原料循环单元以及搅拌单元对反应腔室和循环腔室内的原料进行循环和搅拌，使生长形成的氮化物单晶均匀性更好、质量更高。 | ||
| 搜索关键词： | 熔剂 生长 均匀 氮化物 系统 | ||
【主权项】：
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