[发明专利]一种等离子蚀刻装置及其方法在审
| 申请号： | 202011517782.8 | 申请日： | 2020-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN112808661A | 公开（公告）日： | 2021-05-18 |
| 发明（设计）人： | 钟兴进 | 申请（专利权）人： | 钟兴进 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B5/02;B08B13/00;F26B23/00 |
| 代理公司： | 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 | 代理人： | 吴圳添 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种等离子蚀刻装置，包括工作箱以及夹持杆，所述工作箱内置工作空腔，所述工作空腔前端设置密封门，所述工作空腔侧壁前后两侧侧壁中间位置设置定位块，所述定位块上下两侧分别设置定位柱，所述夹持杆一端分别与定位柱转动连接，所述工作空腔右侧侧壁设置液压杆，所述液压杆输出端设置定位板，所述定位板两端的上下两侧分别设置固定柱，所述固定柱分别转动连接第一传递杆，所述第一传递杆与夹持杆靠近定位柱一端分别铰接第二传递杆，通过夹持杆、第一传递杆、第二传递杆以及定位板的设置，便于对蚀刻板进行夹持固定。通过横杆、驱动电机以及支撑块的设置，便于控制气液两用喷头在蚀刻板范围内进行移动，使清洗更加均匀，清洗效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 蚀刻 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
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