[发明专利]一种用于清洁质谱仪离子源极片的自动清洗装置有效
| 申请号： | 202011479929.9 | 申请日： | 2020-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN112605069B | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 李磊;杜绪兵;卓泽铭;蒋涛;苏柏江;黄清;谢芹惠;周振;黄正旭;高伟 | 申请（专利权）人： | 暨南大学 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B13/00;H01J49/02 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 孙玲 |
| 地址： | 510000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于清洁质谱仪离子源极片的自动清洗装置，包括离子源单元、红外激光单元和仪器壳体，其中，红外激光单元包括激光发射组件和聚焦透镜，使用时，调整红外激光单元的位置，使其位于离子源极片的底部，激光发射组件开启，调整聚焦透镜与激光发射组件的位置，便于激光光斑聚焦，移动红外激光单元以便将离子源极片中的离子束孔周围的区域临时加热到80‑250℃之间，并保持10min左右的时间，使得沉积在离子源极片中的离子束孔周围的区域的电绝缘体涂层在真空高温中升华而蒸发，从而实现在不需要手动拆卸仪器的情况下自动清洗离子源极片，同时，聚焦透镜与激光发射组件之间的距离能够调整，提高自动清洗装置的使用效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 清洁 质谱仪 离子源 自动 清洗 装置 | ||
【主权项】：
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