[发明专利]一种跨尺寸微纳结构阵列的制备方法有效
| 申请号： | 202011284967.9 | 申请日： | 2020-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN112475495B | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | 贺海东;奚子杰;王春举;孙立宁;宁学中 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | B23H5/06 | 分类号： | B23H5/06;B23H9/00 |
| 代理公司： | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人： | 叶栋 |
| 地址： | 215104 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种跨尺寸微纳结构阵列的制备方法，包括：S1、提供浸入至电解液中的工件作为第一电极，提供削边线电极作为第二电极并设置在工件上方，提供干涉光束调节器并输出多光束激光干涉照射在工件表面；S2、第一电极和第二电极之间供电构成回路，驱动削边线电极相对工件往复运动，工件在削边线电极相应位置处发生电化学溶解或电化学沉积，并形成微纳结构阵列，无需掩模，且解决了现有超短脉冲电源输出功率小的问题，提高了微纳结构阵列的加工精度，无需电解液进行高速流动，提高系统安全性及降低成本，实现金属材料各向异性电化学溶解或电化学沉积，可有效提高沉积层的致密性及结合强度，从而提高具有大深宽比的微纳结构的刚性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 尺寸 结构 阵列 制备 方法 | ||
【主权项】：
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