[发明专利]光轴校准方法、光轴校准装置和成像设备有效
| 申请号： | 202011268430.3 | 申请日： | 2020-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN112601071B | 公开（公告）日： | 2022-08-26 |
| 发明（设计）人： | 李强;孙阔原;孟黎;吴海洋 | 申请（专利权）人： | 苏州华兴源创科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H04N17/00 | 分类号： | H04N17/00 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 郭凤杰 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及一种光轴校准方法、光轴校准装置和成像设备。光轴校准方法用于对成像设备的光轴进行校准，包括：将光学校准仪器固定于成像设备的物侧，光学校准仪器上设有第一分划，且用于向成像设备发射平行光；控制成像设备的转盘转动，将转盘上的待调节滤光片调至成像光路中；将第一分划经过镜头和待调节滤光片而成像于成像设备的成像面；调整待调节滤光片与转盘间的倾斜角度，使得第一分划所成的像的中心与成像面上的第二分划的中心重合；将调整后的待调节滤光片固定于转盘。本申请能够有效提高成像设备的成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 光轴 校准 方法 装置 成像 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州华兴源创科技股份有限公司，未经苏州华兴源创科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011268430.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
