[发明专利]基于超形状的电阻抗成像方法在审
| 申请号： | 202011259571.9 | 申请日： | 2020-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN112401865A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 刘东;顾丹萍;杜江峰 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | A61B5/0536 | 分类号： | A61B5/0536 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 孙蕾 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种基于超形状的电阻抗成像方法，包括以下步骤：建立完备电极模型，通过有限元方法求解得到观测模型；利用超形状表达基本单元；利用超形状表达拓扑描述函数；对超形状进行布尔运算；基于超形状表示与布尔运算相结合的形状重构算法；执行重构算法，进行图像重构，以实现基于超形状的电阻抗成像。本发明所提出的算法可以通过同一表达式表示不同形状的物体，同时可以重建得到多相、内嵌等复杂形状，并且对电阻抗成像中普遍存在的模型误差、测量噪音等具有很好的鲁棒性。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 形状 阻抗 成像 方法 | ||
【主权项】：
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